판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293600548
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ID: 293600548
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2008
Etcher, 12"
Factory interface: FI 5.3
Centura AP Mainframe
RF Rack, 12"
Bias 2 RF generator rack
TOYOTA T100L LL/MF Dry pump
SHIMADZU TMP-3403LMC Turbo pump
DAIHEN RMN-50N6 matcher
Shower head assy, TKI SIC SGD, With Alum Plug, E5
12" Facilities interface box: wFIB, eFIB
Inner/Outer independent temperature control
Independent Gas injection: 2 gases for each step
Closer cooling and heating showerhead design
Power supply:
High bias RF power capacity: 7.5 kW (max combined power)
RF Frequency: 162 MHz Source, 13.56/2 MHz Bias
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler는 반도체 산업에 사용되는 부품 생산에 사용되는 고성능 가스 상 (gas-phase) 원자로입니다. AMAT Enabler (AMAT Enabler) 는 특허를 획득한 가스 흐름 (gas-flow) 기반 프로세스를 사용하여 박막 증착에 효율적이고 안정적인 방법을 제공하는 독특한 설계를 갖추고 있습니다. APPLIED MATERIALERS Enabler's chamber는 대기에서 봉인되어 실리콘 기반 가스 (일반적으로 실레인 또는 디딜란으로 구성) 로 채워져 기판실로 전달됩니다. 그런 다음, 내장 열 관리 장비를 사용하여 기판의 열 전도성 (thermal conductivity) 및 식각 온도를 제어 할 수 있습니다. 이 시스템은 원하는 필름 두께와 에치 (etch) 특성을 만드는 데 사용되는 열 에너지의 양을 정밀하게 제어할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALER Enabler는 가열된 플라즈마 방전 영역에 주입 된 오믹 전류를 사용하여 원하는 프로세스를 수행합니다. 이 일대일 접근 방식은 증착 속도를 향상시키고 필름 오염을 최소화하는 데 도움이됩니다. 또한 AMAT Enabler 에는 Fast-Fill 장치가 장착되어 있어 프로세스 가스 간의 효율적인 전환이 가능합니다. 이 기능은 필름 불균일성 감소, 균일성 향상, 프로세스 성능 향상 등을 통해 프로세스를 최적화합니다. APPLIED MATERIALS Enabler에는 장비 성능, 온도 균일성 및 장기 필름 품질을 유지하기 위해 폐쇄 루프 (closed-loop) 제어 머신도 장착되어 있습니다. 이 최첨단 도구는 플라즈마 생성, 이온 충격, 스퍼터링 등 각 프로세스 단계를 모니터링합니다. 이 자산은 또한 전체 프로세싱 챔버 (Processing Chamber) 전체에서 정확한 온도 제어를 보장합니다. 이는 고품질 컴포넌트를 생산하는 데 중요합니다. 요약하면, Enabler는 더 빠른 속도와 효율성을 갖춘 반도체 부품을 생산하도록 설계된 고성능 가스 상 플라즈마 (gas-phase) 원자로입니다. AMAT/APPLIED MATERIALER (AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler) 는 오믹 전류 분사와 열 관리를 결합하여 프로세스 성능을 향상시키고 오염을 줄이는 독특한 프로세스를 제공합니다. 또한, 생산 중 처리 실 전체에서 온도 균일성을 유지하는 고급 제어 모델 (Advanced Control Model) 을 사용합니다. AMAT Enabler (AMAT Enabler) 는 첨단 기능과 신뢰성 있는 성능을 바탕으로 오늘날 생산되는 반도체 구성 요소 중 일부를 생산하는 데 매우 효율적이고 안정적인 방법을 제공합니다.
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