판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura XE #293775905

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura XE
ID: 293775905
Rapid Thermal Processing (RTP) system SMIF ATM Loadlock HP Robot (3) Chambers (2) SMC Chillers (2) ASYST LPT 2200 SMIF Loaders EBARA AA20N Pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura XE는 반도체 제조 공정에 사용되는 고도의 다용도 플라즈마 강화 화학 증기 증착 (PECVD) 원자로입니다. 이 최첨단 도구는 매우 정밀하고 균일한 기판에 다양한 재료의 박막 (thin film) 을 배치하기 위해 특별히 설계되었습니다. AMAT Centura XE는 탁월한 프로세스 제어, 유연성, 신뢰성을 제공하여 전 세계적으로 반도체 제작 설비를 선호합니다. APPLIED MATERIALS Centura XE는 혁신적인 챔버 디자인으로, PECVD를 통해 박막 퇴적을위한 최적의 환경을 제공합니다. 챔버에는 다양한 가스 입구, RF 플라즈마 소스, 온도 조절 시스템 (temperate control system) 이 장착되어 있어 광범위한 증착 과정을 지원합니다. 시스템의 웨이퍼 처리 (wafer handling) 메커니즘을 통해 여러 기판을 동시에 처리하여 처리량 및 효율성을 높일 수 있습니다. Centura XE의 주요 기능 중 하나는 고급 프로세스 제어 기능입니다. 원자로에는 최첨단 질량 흐름 컨트롤러, 압력 센서 및 RF 발전기가 장착되어 있어 가스 흐름 속도, 챔버 압력, 플라즈마 파워, 온도 등 주요 프로세스 매개변수를 정확하게 모니터링 및 조정할 수 있습니다. 이 수준의 제어는 일관된 필름 품질과 재생성을 보장하며, 대용량 반도체 생산에 매우 중요합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura XE는 또한 유연성이 뛰어나며, 이산화규소, 질화 실리콘, 저K 유전체와 같은 다양한 박막 재료를 증착 할 수 있습니다. 이 시스템은 열 처리 (thermal and plasma enhanced) 증착 프로세스를 모두 지원하며, 특정 장치 요구 사항에 맞게 필름 특성을 사용자 정의할 수 있는 다양한 옵션을 제공합니다. 그 에 더하여, 원자로 는 서로 다른 "필름 '두께, 증착율, 필름 성분 을 위해 쉽게 구성 될 수 있어서, 반도체 산업 의 여러 가지 응용 분야 에 적합 하다. 신뢰성 측면에서 AMAT Centura XE는 반도체 제작 환경의 엄격한 요구를 충족시키기 위해 제작되었습니다. 원자로 의 견고한 구성, 고급 모니터링 시스템 (Advanced Monitoring System), 자동 유지 보수 기능을 통해 가동 중단 시간이 연장되고 다운타임이 최소화되며, 생산 비용이 절감되고 생산성이 극대화됩니다. 이 시스템은 또한 간편한 유지 관리 및 서비스 편의성, 액세스 가능한 구성 요소 및 진단 도구 (신속한 문제 해결 및 수리) 를 위해 설계되었습니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS Centura XE는 반도체 산업의 박막 증착에 대한 새로운 표준을 설정하는 최첨단 PECVD 원자로입니다. 첨단 기능, 탁월한 프로세스 제어, 유연성, 신뢰성 등으로 인해 반도체 제조업체가 최신 디바이스 기술에 대한 고성능, 일관성 있는 박막 (Thin Film) 증착을 실현하고자 하는 필수 불가결한 도구입니다. 최첨단 기능과 검증된 실적을 자랑하는 센츄라 XE (Centura XE) 는 전 세계적으로 선도적인 반도체 제작 시설에 적합한 선택입니다.
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