판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima #9087848

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ID: 9087848
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2009
HDPCVD System, 8" Wafer shape: SNNF SMIF Interface: No Narrow loadlock (3) Ultima STD chambers Chamber information Chamber A: Ebara ET1600W turbo pump Chamber B: Ebara ET1600W turbo pump Chamber C: Ebara ET1600W turbo pump System monitor: First monitor: Through the wall Second monitor: Stand alone Mainframe information: System placement: Stand alone Robot type: HP Robot Robot blade: Ceramic Loadlock wafer mapping: Enhanced N2 Purge type: STEC 4400MC Gas delivery options: MFC type: STEC 4400MC Valves: Veriflow 10 Ra Max Filters: Mott Transducers: MKS w/o display Regulators: Veriflo Single line drop Top SLD gas line feed Gas panel door: Safety wired glass Top system cabinet exhaust MFC: Chamber A: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm Chamber B: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm Chamber C: Gas #1: O2 400 sccm Gas #2: AR 300 sccm Gas #3: SIH4 200 sccm Gas #4: SIH4 100 sccm Gas #5: AR 50 sccm Gas #6: SIH4 30 sccm Gas #7: SIH4 10 sccm Gas #8: NF3 2 slm Gas #9: AR 2 slm 50/60Hz, 208V, 320A, 100MA 2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 센츄라 울티마 (Centura Ultima) 는 초고속 처리량 및 수명이 긴 성능으로 복잡한 프로세스 작업을 수행하도록 설계된 고급 나노 과학 연구 원자로입니다. 이 시스템은 공정 처리량이 높은 재료를 정확하고 정확하게 증착하기 위해 고정밀도, 고해상도 (high-precision), 고해상도 (high-throughput) 다중실 원자로를 갖추고 있어 반복 가능한 저비용 결과를 제공합니다. 이 원자로는 조절 가능한 가스 흐름 속도 및 압력 제어 (1000 mbar 작동 압력 범위) 와 미세 처리 제어를 위해 0.0005 해상도의 가스 믹스를 사용합니다. 또한 오염 위험을 최소화하도록 설계된 견고하고, 밀봉된 챔버 (chamber) 를 통해 빠르고 쉽게 청소할 수 있습니다. 챔버 (chamber) 디자인은 박막 (thin-film) 과 계층화 (layered) 프로세스 모두에 대한 증착의 균일성을 최적화하는 한편, 단단히 제어되는 환경에 영향을 줄 수있는 소음과 진동을 최소화합니다. 이 원자로에는 고해상도 카메라, 마이크로파 가스 분석기 (microwave gas analyser) 를 포함한 현장 진단 및 제어 시스템 (in situ diagnostics and control system) 이 장착되어 있어 증착 과정을 자동으로 정확하게 제어하고 모니터링할 수 있습니다. 프로세스를 신속하고 정확하게 진단하는 기능을 통해 모든 문제를 신속하고 정확하게 해결할 수 있습니다 (영문). 약실 은 또한 기계적 으로 조정 할 수 있으며, 서로 다른 "파라미터 '를 조정 하고 공정 을 최적화 할 수 있다. AMAT 센츄라 울티마 (Centura Ultima) 는 다양한 나노 재료 및 기판 재료와의 호환성을 위해 설계되었으며, 유연한 증착의 이점을 제공합니다. 이 시스템에는 낮은 입자 환경과 최적의 온도 안정성을 보장하는 Class 3 클린 룸 환경이 있습니다. 또한 혁신적인 AMAT 지원 프로그램 인 고객 응용 프로그램, 연구 협력 및 나노 재료 교육이 제공됩니다. 대상 보유자 (Target Holder) 및 증착 소스 (Deposition Source) 와 같은 모든 컴포넌트는 사용자 요구 사항에 따라 조정 및 교환이 가능하므로 나노 물질별 처리 요구를 충족시킬 수 있습니다. 다용도 원자로 (versatile reactor) 는 광범위한 연구 개발 (research and development) 요구 사항을 충족하는 안정적이고 강력한 플랫폼으로 입증되었으며, 최상의 성능을 제공합니다. 다목적 디자인과 신뢰할 수 있고 반복 가능한 결과를 가진 APPLIED MATERIALS Centura Ultima는 고급 나노 과학 연구를위한 귀중한 도구입니다.
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