판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9220219

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor는 반도체 산업의 대용량 증착 및 에칭 애플리케이션을 위해 설계된 최첨단 처리 장비입니다. 소형 시스템에 통합된 대용량 열 처리 챔버 (Large Area Thermal Process Chamber) 를 통해 처리 성능이 향상되고 비용 효율성이 향상됩니다. 인더스티 (Industy) 를 선도하는 통합형 원자로 장치는 고급 프로세스 기술에서 가장 높은 균일성, 처리량 및 수율을 제공합니다. AMAT Centura Ultima X Reactor 기계는 15-x-15x-2 인치 크기의 대규모 열 공정 챔버를 갖추고 있습니다. 이 공정 챔버 (process chamber) 는 대형 웨이퍼 기판을 처리하여 기존 원자로에 비해 더 높은 처리량을 허용하도록 설계되었습니다. 온도가 낮은 예금 및 에치 (etch) 공정에서 최적의 성능을 제공하도록 조정되었습니다. 챔버 (Chamber) 에는 빠른 샘플 로드/언로드 (load/unload) 포트가 장착되어 있어 안전 및 제어 환경에서 웨이퍼를 유지하면서 빠른 샘플 턴어라운드가 가능합니다. 이 도구는 또한 0.1 ° C의 정밀도, 고속 주파수 스위칭 설계, 정전식 압력 제어 밸브 (capacitive pressure control valve) 를 갖춘 독립적 인 챔버 온도 제어 (chamber temperature control) 를 포함한 다양한 기술을 갖추고 있습니다. 또한, 프로세스 챔버 (process chamber) 는 최대 8 개의 가스 입력으로 구성될 수 있으며, 다양한 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있는 유연성을 제공합니다. APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor는 뛰어난 균일성과 처리량을 갖춘 고품질 퇴적 및 에치 처리를 제공하도록 설계되었습니다. 고급 멀티 에치 (Multi-Etch) 기술을 통해 열 예산을 줄이면서 증착과 균일성을 크게 향상시킬 수 있습니다. 처리 자산은 높은 처리량을 요구하는 고급 반도체 프로세스에 적합합니다. 또한 과압, 샘플 회전 (sample rotation), 바닥 격리 (bottom isolation) 와 같은 다양한 안전 기능으로 구성되어 오염 위험을 줄일 수 있습니다. 원자로의 고급 성능 (Advanced Performance) 기능 외에도 편리한 자동화 패키지도 제공됩니다. 이 패키지에는 유연하고, 사용자에게 친숙한 GUI (Graphical User Interface) 및 프로세스 레시피 (Recipe) 의 광범위한 진단 기능이 포함되어 있어 사용자의 특정 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. Centura Ultima X는 다양한 진단 및 도량형 도구를 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor는 고급 반도체 시장에서 프로세스 요구에 적합한 강력하고 신뢰할 수있는 모델입니다. 컴팩트한 디자인, 첨단 기술, 사용 편의성 등으로 인해 많은 업계에서 널리 사용되는 선택입니다. 혁신적인 열 설계, 탄력적인 성능, 비용 효율적인 생산성을 갖춘 AMAT Centura Ultima X Reactor는 고품질의 프로세스 균일성과 처리량을 제공하는 최고의 솔루션입니다.