판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9200053

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X
ID: 9200053
웨이퍼 크기: 12"
CVD System, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X는 다양한 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고성능, 유연성, 비용 효율적인 에치 원자로입니다. 원자로는 낮은 에치 온도, 높은 에치 속도, 고온 안정성, 반복성의 이점을 제공합니다. 울티마 X (Ultima X) 는 환경 친화적인 설계 및 고급 장비 구성 요소로 대용량 생산의 요구를 충족하도록 설계되었습니다. 울티마 X (Ultima X) 는 열 뚜껑이있는 3 구역 가열 챔버를 특징으로하며, 이는 공정 온도와 거품 점의 균일성을 위해 설계되었습니다. 반응성 가스 처리 시스템 (reactive gas handling system) 은 중요한 가스 부품을 정확하고 정확하게 전달하는 반면, 고급 원격 진단 모듈은 원격 모니터링을 지원합니다. 또한 Ultima X는 정밀한 가스 흐름 제어를 가능하게하여 에치 프로세스 (etch process) 를 최소화 할 수있는 Precise Despense 측정 기술을 갖추고 있습니다. Ultima X는 Etch Release를 포함한 다양한 etch 전략을 활용합니다. Etch Release는 선택성을 높이고 프로세스 제어를 향상시킵니다. 원자로 (Reactor) 의 모듈식 설계를 통해 유지 관리 및 재구성이 쉽고, 기존의 에치 (etch) 도구에 비해 유연성이 향상됩니다. 또한, 원자로는 통합된 안전 (Safety) 기능과 공정 검증 도구를 통해 다운타임과 유지 보수가 매우 짧도록 설계되었습니다. 또한 Ultima X 는 가동 중지 시간 감소, 처리량 향상, 배치 프로세스 제어 향상 등 다양한 이점을 제공합니다. 통합 모니터링 장치는 향상된 프로세스 제어 및 실시간 진단 기능을 제공하는 반면, 지원 소프트웨어 모듈은 정확성, 일관성, 반복성을 보장합니다. 원자로는 또한 AMAT 독점 Process IQ 소프트웨어를 사용하여 배치 및 고급 프로세스 제어를 가능하게합니다. 결론적으로 AMAT Centura Ultima X는 대량 생산을 위해 설계된 고급 에치 원자로입니다. 원자로는 낮은 에치 온도, 높은 에치 속도, 고온 안정성, 정확한 가스 흐름 제어 등 다양한 이점을 제공합니다. 또한 통합 모니터링 시스템, 지원 소프트웨어 모듈 및 Process IQ 소프트웨어가 포함되어 있습니다.
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