판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9195501

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X 원자로는 반도체 장치 제조 공정을위한 고급 재료 및 구조의 구현을 위해 설계된 고급 주석 및 실라이제 CVD (Chemical Vapor Deposition) 시스템입니다. Ultima X는 정확성, CVD 기능, 프로세스 유연성을 향상시켜 견고하고 신뢰할 수 있는 제조 공정을 보장합니다. Ultima X는 이중 소스/챔버 재료 도입을 위해 이중 포트 아키텍처를 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 두 기판을 동시에 처리할 수 있으므로 프로세스 시간이 더 빨라집니다. 또한, 이중 레이저 에칭 샤워 헤드 (dual laser-etched showerhead) 는 프로세스에 아무런 방해없이 기판 위에 반응물 가스를 더 잘 분배합니다. Ultima X의 정밀 온도 제어 및 고감도 압력 변환기는 뛰어난 프로세스 정확성과 반복 성을 보장합니다. 이는 CVD 프로세스 동안 최적의 결과를 얻기 위해 압력과 온도의 제어가 필수적이기 때문에 수율 (yield) 과 일관성 (consistency) 을 증가시킵니다. Ultima X의 고급 소프트웨어 (Advanced Software) 제품군은 가스 레시피, 챔버 작업 및 자동 교정 (autocalibration) 을 포함하여 프로세스의 모든 측면을 포괄적으로 제어합니다. 이를 통해 사용자는 실시간 레시피를 분석하고, 중요한 프로세스 매개변수를 모니터링하고, 실시간으로 프로세스 매개변수를 조정하여 프로세스 조건을 최적화할 수 있습니다. Ultima X의 자동 기능을 통해 유지 보수가 매우 적습니다. 유지 보수 작업은 분배 튜브, 모세관, 가스 매니 폴드, 광학 포트의 일상적인 청소로 제한됩니다. 이 시스템은 완전 자동화 (Fully Automated) 될 수 있습니다. 즉, 한 번에 몇 시간, 며칠 동안 자동 실행하여 효율성을 높일 수 있습니다. 프로세스 안정성을 보장하기 위해 Ultima X는 프로세스 챔버 (process chamber) 의 압력 및 온도 변화를 줄이는 조정 가능한 우회 기능을 제공합니다. 바이 패스는 또한 전력 변동을 방지하여 정확성과 반복 성을 향상시킵니다. Ultima X에 사용되는 모든 구성 요소는 고품질이며 장기적인 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 최대 균일성 및 증발 파편 제어를 위해 형성된 고급 석영 공정 챔버 (High-grade quartz process chamber) 는 뛰어난 성능을 제공합니다. 또한 전원 공급 장치 및 기기는 간섭 제거, 소음 감소, 제품 품질 향상을 위해 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS/AMAT Centura Ultima X는 반도체 산업을위한 고급 재료 및 구조를 구현하기위한 안정적이고 고급 CVD 도구입니다. 탁월한 정확성, CVD 기능, 프로세스 유연성을 제공하며, 자동화되고 유지 보수가 적은 기능도 제공합니다.