판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus #9046180

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ID: 9046180
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1999
CVD, 8" Main body: 3-Chamber Signal tower: 3-Color Door interlock sensor Wafer OF type: Falt type Process chamber: Dome heater cooling type Ceramic ESC: WTM Top mount remote plasma Generator type: ENI Local match box Heat exchanger: SMC Dual IHC control Main frame: Loadlock body: Wide Wafer sliding sensor Cool chamber slot: 8-slot HP Extend robot: One ARM Gas panel: Cabinet exhaust: Top Single line drop Gas line feed: Top Monitor: Third: Station Maint: Others Missing parts or Detaching parts list: (3) Gas ring 0010-02616 (2) Silt valve plate 0010-20021 (1) TGV trottle valve 0020-12521 (1) RPS Al GAS line 0050-46867 (2) Ceramic dome 0200-18062 (3) TGV sol v/v ass'y 3870-01649 (1) Cold loop flow sensor (1) NF3 MFC (2L) (1) Top Ar MFC (50 sccm) Packing list: Main system Power AC rack Rf generator rack(eto)_1 Rf generator rack(eto)_2 Rf generator rack(eto)_3 Rf generator rack(eto)_4 Rf generator rack(eto)_5 SMC chiller Monitor Currently installed 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus는 집중된 고품질 박막 생산을 위해 설계된 강력하고 완전하게 자동화된 고출력 화학 증기 (CVD) 원자로입니다. 이 장비는 초박형 유전체, 반도체, 금속 표면 등 다양한 재료를 증착하기위한 최신 CVD 기술을 갖추고 있습니다. 이 시스템은 최신 프로세스 제어 방법 (예: 고급 가스, 온도 제어) 을 활용하여 처리량을 극대화하고 생산성 및 재생성을 향상시킵니다. 또한, 이 장치는 다양한 새로운 나노 구조 및 미세 구조를 생산하여 새로운 장치 아키텍처를 가능하게합니다. 기계의 중심에는 혁신적인 멀티 존 (multi-zone) CVD 원자로가 있으며, 단일 대형 배치 챔버가있는 3 챔버 디자인입니다. 이 챔버는 3 "~ 8" 범위의 다양한 웨이퍼 크기에 걸쳐 다양한 재료를 매우 균일 하게 증착합니다. 이 도구는 또한 프로세스 제어 개선을 위해 파우더 (powder) 와 PLD 소스 (PLD-sourced) 전구체를 포함하여 광범위한 증착 레시피를 처리 할 수 있습니다. 증착율은 고급 가스 전달 시스템과 빠른 웨이퍼 회전을 통해 추가로 최적화됩니다. AMAT Centura Ultima Plus는 또한 CMCVD 기능에서 패턴 와이어에 이르기까지 매우 정확한 두께 제어 및 복잡한 구조 형성이 가능합니다. APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus는 또한 자동 웨이퍼 로딩 및 언로딩을 특징으로하며, 고급 질소 제거 에셋은 웨이퍼 오염을 방지하기 위해 매우 깨끗한 환경을 보장합니다. 또한, 이 모델은 프로세스 조건에 대한 실시간 모니터링을 위해 고급 광 장비를 사용합니다. 하나의 센츄라 울티마 플러스 (Centura Ultima Plus) 를 설치하면 하루에 수천 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며, 고급 배기 처리 및 복구 시스템 구현을 통해 수율이 극대화됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus는 중점, 고품질 박막, 나노 및 미세 구조의 제작을위한 이상적인 시스템이며, 소재 복합 소재 및 나노 입자 기반 응용 프로그램을 처리하는 데 최적입니다. 이 장치는 광범위한 운영 환경에서 뛰어난 성능을 발휘하며, 자동화 기능을 통해 프로세스 속도 (process speed) 와 균일성 (unifority) 을 극대화하면서 운영 라인에 가치를 제공합니다.
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