판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9223731
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ID: 9223731
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2001
CVD System, 8"
System general:
Mainframe: Centura 5200 DCVD
Wafer type: Notch
Chamber position A, B, C: HDP Ultima plus chamber, 8"
Chamber E position: Multi-slot cool down chamber
Chamber F position: Wafer orienter chamber
System controllers:
SBC V452 Board
VGA Board
P3 Board
Facility and safety configurations:
EMO Switch type: Turn to release EMO
EMO Guard ring
EMO Shunt trip
Bracket standoff adapter
Water and smoke detect output: Alarm
Facility power indicator
System water leak detector
Main frame:
Facilities type: Phase II
System placement: Stand alone
Front panel: Steel white polymer finish
Facilities connection: VCR
Facilities orientation: Mainframe facilities bottom connection
Facilities water: Phase II water
Controller IO interface option: I/O Expansion base card with seriplex gas panel card
Interface: GEM Interface
Load lock chamber type: Narrow body
Transfer chamber:
Transfer chamber manual lid lift
Transfer chamber sensor
Process chamber slit valve A, B, C: Bonded door with KALREZ O'ring
Robot type: HP+ Robot (Dual speed)
Basic wafer on blade detector
N2 Purge MFC type: Unit instrument (UFC-1661) 1L
Buffer purge slow vent flow: 500 sccm
Dedicated transfer rough pump: EDWARDS Pump interface
Mainframe inert gas lines:
Chamber N2 supply
Chambers N2 surface finish: 10 Ra
Mainframe N2 supply
Mainframes N2 surface finish: 10 Ra
Chamber A configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458
Thermalogic board
Manometer type: DUAL 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type: 3870-04276, Pendulum ISO250 (Actuator 52.3)
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1604W
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber O'ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
Chamber A process kit:
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Chamber B configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458 Thermalogic board
Manometer type: Dual 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type
3870-04276, Pendulum ISO250 Actuator 52.3
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1606W TF
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber o ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744RPS, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
EDWARDS Rough pump interface
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Gas panel configurations:
Gas panel type: HP 10 Ra
Cabinet exhaust: Top exhaust
Gas panel door
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Valve type: FUJIKIN 5 Ra max
Filter: MILLIPORE Ni 10 ra max
Fitting: VCR
MFC: SEC-4400 MC (D-Sub 9 pins)
Veriflo Regulator
MKS Transducer with display unit
Gas line configuration chamber A, B, C:
Gas pallet: HDP Ultima plus
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Automatic gas line purging capability
Gas 1: SiH4, 200 sccm
Gas 2: NF3, 2000 sccm
Gas 3: SiH4 Top, 20 sccm
Gas 4: SIF4, 20 sccm
Gas 5: AR Top, 50 sccm
Gas 6: AR, 300 sccm
Gas 7: HE, 200 sccm
Gas 8: SIF4, 100 sccm
Gas 9: O2, 400 sccm
Gas 10: AR-MW, 2000 sccm
System controller:
Controller Type: Phase I Controller
Controller GFCI: 30MA GFCI
Controller UPS: Facilities ups interface
Controller electrical interface: Top feed AC cables
Controller exhaust: Top exhaust
Cursor type: Blinking cursor
Heat exchanger type:
SMC Themo chiller, INR-498-001D
Heat exchanger water fittings: Stainless steel
Generator rack:
Chamber A, B, and C top RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C side RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C bias RF generator: ENI GHW-50A
Power: 200/208 VAC, 50 Hz, 400 A
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP Reactor는 드라이 인 플레이스 에칭 및 등각 코팅의 세계에서 고급 도구입니다. 이 장비는 제조업체가 최소한의 노력과 최소한의 복잡성으로 높은 정밀도를 달성할 수 있도록 설계되었습니다 (영문). HDP는 다양한 프로세스에 대한 최고 수준의 성능 및 주기 제어 기능을 제공하도록 설계된 최신 플라즈마 기술인 고밀도 플라즈마 (High-Density Plasma) 를 의미합니다. AMAT Centura Ultima HDP 원자로는 전 세계적으로 점점 더 복잡한 반도체 제조업체의 요구를 충족시킵니다. 이 시스템의 고급 기능과 모듈식 아키텍처 (Modular Architecture) 는 광범위한 애플리케이션을 위한 신속한 구현, 유연성, 확장성을 제공합니다. 여기에는 매우 얇은 등각 코팅, DRIE (deep reactive ion etching), 전기 도금 구리 리프트 오프 (ECLO) 및 기타 응용 프로그램이 포함됩니다. APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP Reactor는 처리량 및 주기 시간 제어를 최적화하여 높은 수준의 생산성을 제공합니다. 멀티 주파수 RF 플라즈마 소스 (Multi-Frequency RF Plasma Source) 및 수냉식 음극은 소형 기능 크기 제어 및 저막 응력을 제공하는 반면, 선형 질량 흐름 컨트롤러는 프로세스 가스를 정밀 제어합니다. 모듈식 아키텍처 (Modular Architecture) 를 사용하면 업무 중단을 최소화하면서 재구성할 수 있으며, 여러 개의 챔버 (Chamber) 에서 구성되므로 여러 부품을 병렬로 빠르고 정확하게 처리할 수 있습니다. HDP 원자로는 에칭 및 등각 코팅 프로세스를 최적화하기 위해 플라즈마 소스 기술의 최신 발전을 제공합니다. 새로 설계된 플라즈마 소스 및 챔버를 사용하면 고가로 비율 에칭 및 코팅이 가능합니다. HDP (HDP Reactor) 의 고급 프로세스 제어 (Process Control) 기능은 엄격한 프로세스 분배를 달성하여 운영자의 수동 조정 필요성을 줄입니다. 이 장치의 실시간 프로세스 모니터링은 신속한 결정과 신속한 수정 조치를 가능하게합니다. 이 시스템에는 신속한 오류 피드백 및 다운타임 최소화를 위한 통합 지능형 진단 (Intelligent Diagnostics) 기능이 있습니다. 온라인 시뮬레이션 (Simulation) 기능을 통해 사용자는 레시피를 빠르게 조정하고 설정 시간이 길지 않은 상태에서 필요한 변경 사항을 적용할 수 있습니다. 또한, 데이터 출력을 사용하여 관련 프로세스 세부 정보를 기록하고, 프로세스 모니터링 기능을 향상시킬 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP Reactor는 드라이 인 플레이스 에칭 및 등각 코팅 세계에서 가장 최신의 고급 도구입니다. 이 도구는 안정적이고 효율적인 자산 (높은 수준의 정확성과 반복 가능성) 을 추구하는 반도체 제조업체를 위해 설계되었습니다. 고급 기능과 모듈식 아키텍처 (Modular Architecture) 는 신속한 구축 및 확장성을 제공하므로 업무 중단을 최소화하고 다양한 어플리케이션을 위해 여러 개의 챔버에 구성이 가능하도록 재구성할 수 있습니다. AMAT CENTURA ULTIMA + HDP Reactor (AMAT CENTURA ULTIMA + HDP 원자로) 는 높은 수준의 생산성을 제공하며, 플라즈마 소스 기술의 최신 향상을 통해 복잡한 프로세스에 필요한 정밀도를 달성할 수 있습니다.
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