판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9189127

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP는 반도체 장치 제조에 사용되는 고밀도 플라즈마 (HDP) 증착 공정을 위해 설계된 원자로입니다. HDP 장비는 초밀도, 균질 및 저온 플라즈마 전위를 생성하여 필름 증착 균일성과 품질을 향상시킵니다. HDP 시스템은 또한 고출력 밀도를 갖추고 있으며 정확한 이온 플럭스 제어, 강력한 작동, 뛰어난 균일성을 제공합니다. 또한, AMAT Centura Ultima HDP는 다양한 플라즈마 화학 물질을 사용할 수있는 고급 플라즈마 소스 디자인을 특징으로합니다. HDP 장치는 처리량이 많은 제작용으로 제작되어 처리 속도가 매우 빠릅니다. HDP 원자로는 고급 고밀도 공정 (HDP) 증착을 위해 설계되어 씬 게이트 산화물, 게이트 스택 필름, 게이트 스페이서, 게이트 라인 확장, 실리사이드 등 다양한 필름을 적용 할 수 있습니다. 또한 APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP의 플라즈마 소스 설계는 정확한 이온 및 에치 프로세스 제어를 가능하게하며, 임계 치수 변화를 최소화하고, 입자 오염을 줄이고, 미세 선 해상도를 향상시키는 빠르고 정확한 이온 플럭스 및 에치 속도 제어를 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP는 사용자 효율적이고 자원 효율적이며, 직관적인 소프트웨어 인터페이스와 클로즈드 루프 (closed-loop) 프로세스 제어를 갖추고 있습니다. 이러한 통합 프로세스 제어 기능을 통해 운영 효율성 보장, 최적의 프로세스 성능 유지, 디바이스 생산성 향상 등의 효과를 얻을 수 있습니다. 또한 HDP (Automated Machine) 설계를 통해 원격 모니터링과 완벽한 추적 기능을 통해 다운타임을 줄이고 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 Centura Ultima HDP는 프로세스 프로세스 조정 (Dynamic Process Adjustment) 을 지원하는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 갖추고 있어 프로세스 화학, 마스크 온도, 표면 손상 등을 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 상주 프로파일 (reside profile) 및 입자 모니터링 (particle monitoring) 과 같은 고급 진단 도구를 제공하여 운영자가 장치 성능 향상을 위해 프로세스 매개변수를 조정하고 최적화할 수 있도록 도와줍니다. CENTURA ULTIMA + HDP는 반도체 장치 제조를위한 고밀도 플라즈마 필름 증착을위한 최첨단 자산입니다. 정밀한 이온 플럭스 (ion flux) 및 에치 레이트 제어, 빠른 프로세스 시간, 효율적인 운영 및 향상된 장치 생산성을 위한 고급 프로세스 모니터링 기능을 제공합니다. 이 모델은 사용자 친화성 (User-Friendliness), 자원 효율성 (Resource Efficiency) 및 전반적인 프로세스 최적화를 위해 설계되었으며 현대 HDP 증착 요구 사항에 이상적인 솔루션입니다.