판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #145562

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP (High Density Plasma) 는 매우 높은 플라즈마 밀도를 제공하도록 특별히 설계된 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 원자로는 다양한 기능을 자랑하며, 다양한 응용 분야에 대해 복잡한 금속 및 유전체 필름 (dielectric film) 을 증착 할 수 있습니다. Word Count: 169 AMAT Centura Ultima HDP는 CVD 기술의 최신 발전을 활용하여 최대 증착률을 제공합니다. 이 원자로는 고유 한 닫힌 챔버 (closed chamber) 설계를 기반으로하며, 이는 더 높은 수준의 플라즈마 격납과 공정에 대한 더 나은 제어를 제공합니다. 챔버 내부에 HDP에는 기존 플라즈마 소스보다 최대 3 배 높은 플라즈마 밀도에 도달 할 수있는 고밀도 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. 이 더 높은 혈장 밀도는 반응 및 증착 속도를 증가시켜 증착 시간을 단축시키고, 처리량을 증가시킵니다. 또한 HDP에는 통합 증착 균일 모니터도 장착되어 있습니다. 이 모니터는 배치 (deposition) 프로세스가 사전 설정된 사양 내에 있는지 확인하여 필요한 모든 조정 작업을 빠르고 쉽게 수행할 수 있도록 합니다. 이 균일성 모니터는 또한 복잡한 증착 프로세스에 대한 높은 수율과 반복성을 제공하여 안정적이고 일관된 증착 단계를 제공합니다. HDP 원자로 (HDP Reactor) 는 또한 고유 한 냉각 장비를 사용하여, 고속 증착 동안 챔버에서 균일 한 온도를 유지하기 위해 플라즈마에서 생성 된 열을 줄이고 소산시키는 데 도움이됩니다. 이 냉각 시스템은 또한 증착 장치 (deposition unit) 의 워크로드를 줄여 재시작 (restart) 이 줄어들고 유지 관리 간격이 길어집니다. 마지막으로, HDP 원자로에는 고급 프로세스 제어 및 진단 기능이 장착되어 있습니다. 이를 통해 체임버 진단 (chamber diagnostics) 과 증착 매개변수 (deposition parameters) 를 빠르고 정확하게 조정하여 증착 프로세스의 성능을 최적화할 수 있습니다. 이 고급 제어 장치 (Advanced Control Machine) 는 증착 프로세스가 최고 효율로 실행되고 있는지 확인하고 생산합니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA + HDP는 최고 수준의 기술을 사용하여 증착률, 균일성 및 신뢰성을 높이는 고급 원자로입니다. 이 원자로는 광범위한 어플리케이션에 이상적이며, 모든 CVD 증착 프로세스에 탁월한 성능을 제공합니다. 단어 수: 500