판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #9063643
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ID: 9063643
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chamber
(1) Ultima plus chamber
Technology :IMD
Wafer Size : 8"
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
CHAMBER TYPE AND LOCATION
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch C : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orientor
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER C - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
EXISTING ELECTRICAL REQUIREMENTS
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EXISTING SAFETY EQUIPMENT :
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Loadlock Cassette : Narrow Body
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
EXISTING GAS DELIVERY :
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, C
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
REMOTES :
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
ASTEX 80S09mW (3)
Quantity : Two
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Existing Heat Exchanger : SMC Thermo
Umbilicals :
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
Currently crated and stored
System Can be inspected
1999-2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD (High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition) 원자로는 대용량, 최첨단 박막 재료를 생산할 수 있도록 설계된 모듈식 저비용 수직 로입니다. 원자로는 대용량 플라즈마 (plasma) 의 고밀도를 사용하는 혁신적인 특허 설계를 특징으로하여 증착률 (deposition rate) 과 수율 (revield rate) 이 더 빨라집니다. 이 기술은 또한 낮은 기생충과 향상된 증착 균일성을 제공하여 태양 전지, 평면 패널 디스플레이, 광학 코팅 (optical coating), 고급 반도체 장치 (advanced semiconductor device) 와 같은 응용 분야에 사용할 수있는 훌륭한 선택입니다. AMAT Centura Ultima HDP CVD 원자로는 RF 구동 고밀도 플라즈마 (HDP) 를 사용하여 저온에서 반응을 촉진하여 에너지 효율적이며 고성능 박막 코팅을 생산하는 데 이상적입니다. 이 기술은 또한 전통적으로 CVD 프로세스와 관련된 많은 비용이 많이 드는 재료 처리 및 청소 단계를 제거하고, 비용을 최소화하고, 전체 수율을 향상시킵니다. 이 장비는 매우 구성 가능하여 금속 및 유전체 표적, 유전체 화합물, 가스 표적 (gas target) 등 다양한 플라즈마 소스와 재료를 선택 가능한 시퀀스에 사용할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD 원자로의 중심에는 서브 모듈 (sub-module) 또는 작업 공간 (work-space) 이 있습니다. 이 "가스 '관리 장치 는 증착 과정 에 사용 되는" 가스' 의 지속적 인 흐름 이 항상 정확 한 결과 를 위한 최적 의 수준 에 있음 을 보장 해 준다. 중앙에 장착 된 목표 보유자 (target holder) 는 강착 과정에서 최적의 균일성을 위해 방해없이 플라즈마 (plasma) 에 의해 코팅 될 기판이 회전하도록 보장합니다. 균일 한 증착과 결합 된 고밀도 플라즈마 (high-density plasma) 는 기질의 온도가 낮고 균일하게 유지되도록 보장하며, 표면을 가로 질러 고품질의 정밀도 증착을 보장하면서 재료의 특성을 유지합니다. 이 기계의 고급 제어 소프트웨어 (Advanced Control Software) 는 직관적인 사용자 인터페이스를 제공하여 프로세스 매개변수 (Process Parameter) 를 정확하게 제어하고 증착 프로세스를 최적화할 수 있습니다. Centura Ultima HDP CVD 원자로는 최첨단 박막 증착과 관련된 모든 생산 라인에 적합한 선택입니다. 혁신적이고 비용 효율적인 설계 덕분에, 저비용, 최소한의 오버헤드로 높은 처리량을 생산할 수 있습니다. 이로써 '박막 증착' 과 '장치 성능 향상' 의 잠재력을 완전히 실현하고자 하는 산업 제조업체에게는 탁월한 선택 '이 될 수 있습니다.
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