판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #9036577

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD는 대규모 생산을 위해 설계된 고밀도 플라즈마 (HDP) 화학 증발 (CVD) 원자로입니다. 이 장비는 기존 CVD 원자로보다 10 배 빠른 증착률을 허용하여 처리량을 높입니다. 시스템의 프로세스 챔버에는 프로세스 챔버 벽에 내장된 프로세스 제어 단위 (Process Control Unit, PCU) 세트가 장착되어 있어 프로세스를 손쉽게 모니터링하고 모니터링할 수 있습니다. PCU는 증착 균일성을 유지하고 플라즈마 강화 된 화학 증기 증착 전반에 걸쳐 공정 제어를 지원합니다. 공정 챔버에는 2 개의 평행 플라즈마 전극 (parallel plasma electrroad) 이 있으며, 이는 반응성 종의 균일 하고 균질 한 분포를 유지하는 데 도움이됩니다. AMAT Centura Ultima HDP CVD 장치는 또한 프로세스를 정확하고 즉각적으로 읽는 현장 모니터링 머신을 갖추고 있습니다. 이 도구는 압력과 온도를 제어하기위한 이중 필라멘트 로드 에셋을 가지고 있습니다. 또한 반응성 중간 형성 및 측정에 대한 자동 지원을 제공합니다. 원자로 (reactor) 는 또한 가장 높은 정도의 공정 제어성을 제공하도록 설계된 독특한 현장 온도 및 압력 프로파일 제어 (in-situ temperature and pressure profile control) 를 특징으로합니다. 이 모델을 사용하면 증착시 프로세스 챔버 (process chamber) 내의 조건을 미세하게 조정하여 균일성 (unifority) 과 성능 향상 (enhanced performance) 을 달성할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 더 큰 최적화를 촉진하는 모니터링 및 피드백 시스템을 구축했습니다. APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD 시스템은 신뢰성이 높도록 설계되었으며 금속, 유전체, 폴리머, 유기농 및 조합 등 다양한 재료와 호환됩니다. 이 장치 의 평균 수명 은 길며, 수천 시간 동안 일 할 수 있다. Centura Ultima HDP CVD 기계는 전반적으로 뛰어난 증착 균일성, 고속 증착 및 프로세스 제어를 제공합니다. CVD 증설 (CVD Deposition) 은 매우 효율적이고 안정적인 방법이며, 처리량이 많은 생산의 요구를 충족시킬 수 있습니다.