판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #115605

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ID: 115605
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Etcher, 8" (2) Ultima chambers Technology :IMD      Wafer Size : 200mm      Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)      Software Version : B4.3.14 Ch A : Ultima HDP-CVD Ch B : Ultima HDP-CVD Ch D : Ultima + HDP-CVD Ch E : Multislot Cool Down Ch F : Orienter CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD : Nozzle : Long/Long Side Clean Gas Distribution : Baffle Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA Wafer Temperature Monitoring : Yes Top Gas Feed : Without Top O2 Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR Clean Method : Microwave CHAMBER D - Ultima + HDP-CVD : Nozzle : Long/Long Side Clean Gas Distribution : Baffle Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA Wafer Temperature Monitoring : Yes Top Gas Feed : Without Top O2 Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR Clean Method : Top Mount Line Frequency : 60Hz Line Voltage : 200/208V Line Amperage : 600A Platform EMO type : Turn to release EMO EMO Guard Ring : Yes System Labels : English w/Chinese Non-simplified System Smoke Detector : Controller EXISTING MAINFRAME : Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot Frame Type : Standard Frame System Placement : Through the Wall Mainframe Skins : No Mainframe Exhaust Duct : No Mainframe Facilities Connection : Back Robot Type : HP Robot Robot Blade : Ceramic Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor Loadlock Wafer Mapping : Basic N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max Valves : Fujikin 5 Ra Max Filters : Pall Ni 10 Ra Max Transducers : MKS w/ Display Regulators : Veriflo System Cabinet Exhaust : Top Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes APC Seriplex Cover : Yes Gas Panel Doors : Solid Gas Pallet Configuration : Chamber A, B, D Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer #1 SiF4 100 Y Y #2 O2 400 Y Y #3 SiH4 200 Y Y #4 Ar 300 Y Y #5 SiH4 20 Y Y #6 Ar 50 Y Y #7 NF3 2000 Y Y #8 Ar 2000 Y Y RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack Chamber A, B :ASTEX 80S09mW (2) Chamber D : ENI Genesis Nova -50A-04 Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass Heat Exchanger : SMC Thermo System Controller Signal Cable Length : 55ft RF Gen Rack Cable Length : 50ft Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft HX Hose Length : 50ft HX Cable Length : 50ft Pump Cable : 50ft Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m) Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale System Can be inspected Currently Crated 2000 vintage.
AMAT Centura Ultima High Density Plasma (HDP) CVD (chemical vapor deposition) 원자로는 소형 및 대형 웨이퍼 크기에 걸쳐 필름 및 필름 스택의 정확하고 정확하며 비용 효율적인 증착을 제공하는 일체형 공정 장비입니다. 이 CVD 원자로는 다양한 복잡한 기판에 초박막 (ultra-thin film) 을 퇴적시키기 위해 높은 증착율로 고효율 플라즈마 소스를 사용합니다. 이 고성능 도구는 성숙하는 프로세스 윈도우, 놀라운 반복 가능성, 그리고 FAB 환경에서 탁월한 성능과 견고성을 약속합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD는 고출력 및 주파수에서 고급 플라즈마 소스를 사용하여 증착율과 균일성을 정확하게 제어합니다. 이 시스템은 고밀도 플라즈마 (Plasma) 작동을 처리하도록 설계되었으며, 다양한 박막 재료에 비해 높은 균일성과 높은 증착 처리량을 실현할 수 있습니다. 이 장치는 큰 (200mm) 및 작은 (150mm) 직경의 기판에 걸쳐 정확하고 반복 가능한 증착을 제공하여 복잡한 기판에서 필름 증착을위한 업계 최고의 원자로입니다. AMAT Centura Ultima HDP CVD 머신은 다양한 안전 및 인체 공학적 기능으로 설계되어 사용자 안전과 작동 편의성을 보장합니다. 로봇 암 (robot arm) 은 안전하고 안정적인 웨이퍼 전송을 제공하여 총 프로세스 주기를 최소화하도록 설계되었습니다. 공구의 단일 챔버 설계는 챔버-챔버 (chamber-to-chamber) 전송 작업이 제거되어 안전성이 향상됩니다. 자산의 최적화된 인체 공학 (ergonomics) 은 직원에게 안전한 환경을 제공하여 운영자 오류 (operator error) 및 기타 사고의 가능성을 줄입니다. APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD는 정확하고 정확한 필름 증착이 가능한 고성능 모델입니다. 이 장비는 고급 플라즈마 소스 (plasma source) 를 사용하며 다양한 기판 크기와 모양에 대해 높은 균일성을 제공합니다. 이 시스템은 인체공학적이고, 안전하며, 다양한 고급 박막 재료와 완벽하게 호환됩니다. 이 CVD 원자로는 대규모 반도체 제작 설비와 연구 개발 환경 (Research and development environment) 모두에서 필름 증착에 이상적인 도구입니다.
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