판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RP #9190554

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RP Reactor는 반도체 및 관련 재료의 제작에 사용되는 혁신적인 가공 도구입니다. 제조 공정 (Manufacturing Process) 의 모든 측면을 빠르고 정확하게 제어할 수 있는 기능을 제공하며, 장치의 생산량 및 성능을 향상시키는 데 도움이 됩니다. AMAT Centura RP는 풀 사이즈 RIE (production-scale reactive-ion etch) 장비이며 시장에서 최고의 처리 제품 중 하나입니다. APPLIED MATERIALS Centura RP는 단일 도구에서 RIE, ALD (Atomic Layer Deposition) 및 Deposition/Strip을 결합하는 고급 클러스터 도구 설계를 기반으로합니다. 이 솔루션은 다양한 프로세스 단계를 위한 통합 솔루션을 제공하며, 그 결과 효율성이 향상됩니다. 이 시스템은 대형 챔버 (최대 8 인치) 를 갖추고 있으며, 추가 하드웨어 또는 고정장치 없이 여러 처리 단계에 사용할 수 있습니다. Centura RP는 또한 ALD 및 PVD (Physical Vapor Deposition) 프로세스 모두에 매우 높은 진공 기능을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RP는 고급 프로세스 제어에 필요한 유연성과 성능을 제공합니다. 이 장치는 실시간 프로세스 모니터링 및 제어 (control-time process monitoring and control) 기능을 제공하여 사용자가 디바이스를 올바르게 처리할 수 있도록 합니다. 첨단 제어 기술 (Advanced Control Technology) 은 장치와 프로세스의 생산량을 극대화하는 데 도움이 됩니다. 이 기계는 또한 예측 도펀트 프로파일링 (predictive dopant profiling) 과 같은 특수 기능을 제공하여 장치가 예상 사양에 부합하는지 확인합니다. AMAT Centura RP는 도핑 및 에칭에 대한 높은 정밀도를 제공합니다. 이 도구는 전자 빔, 레이저, 광원 (light source) 을 포함한 다양한 투약 옵션과 웨이퍼 전체의 균일성을 제공합니다. 이 자산은 또한 저전력 분배 (low power distribution) 를 생성하여 기본 기판을 손상시키지 않고도 표적 에칭을 달성 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura RP 는 안정적이고 견고한 툴로서 높은 수준의 가동 시간을 제공합니다. 모델 (model) 은 생산 환경의 까다로운 조건에 견딜 수 있도록 설계되어, 필요할 때 항상 실행됩니다. 이 장비는 또한 숙련된 지원 팀 (Support Team) 의 지원을 받아 발생할 수 있는 모든 문제나 질문에 도움을 줍니다. 결론적으로, Centura RP Reactor는 고급 처리 작업을 위한 정확성, 유연성, 성능을 제공하는 혁신적인 처리 도구입니다. 통합 기능을 통해 최적의 장치 성능과 향상된 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 이 시스템은 신뢰할 수 있으며 숙련된 지원 팀의 지원을 받아 반도체 제작 (Bufrict of Semiconductor) 에서 탁월한 성과를 얻으려는 사람들에게 매력적인 선택입니다.