판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Radiance #9094639

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance는 현재 사용 가능한 가장 고급 플라즈마 에치 시스템 중 하나입니다. 반도체 장치의 초고화상 비율 제조업체를 위해 설계된 에치 원자로입니다. 원자로는 엄청나게 다양한 도구이며, 단일 및 멀티 챔버 구성과 다양한 에치 (etch) 프로세스를 제공합니다. 이 장비는 적당한 에치 속도로 100 나노 미터 이하의 해상도를 달성 할 수 있습니다. AMAT 센츄라 레이디언 스 (Centura Radiance) 원자로에는 몇 가지 기능이 장착되어 있으며, 챔버는 광범위한 에칭 화학 물질 및 에치 방법으로 실행 될 수 있습니다. 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 기술은 극히 균일 한 플라즈마를 생산하는 반면, 급진적 인 새로운 기술 인 빔 보조 증착 (beam assisted deposition) 은 챔버 내에 증착 된 모든 재료가 매우 균일 한 두께에 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura Radiance 원자로는 가스 플라즈마를 챔버에 도입하여 에너지가 높은 반응성 환경을 만듭니다. 그런 다음, 이 "가스 플라즈마 '는" 에칭' 과정 에 사용 되어 원하는 "프로파일 '을 달성 하기 위하여" 에치' 하는 물질 을 녹인다. 반응성 이온 에칭 (Reactive ion etching) 을 통해 연산자는 다중 패스를 사용하여 에치 깊이와 프로파일을 제어 할 수 있으며, 고 에너지 플라즈마는 에치 속도를 증가시킵니다. 또한 사용자는 각 애플리케이션에 적합한 Etch Rate 를 선택할 수 있습니다. 센츄라 레이디언 스 (Centura Radiance) 원자로는 고급 기능을 통해 광학 테스트를 위해 다이 메탈 (die-metal) 상호 연결에서 나노 구조에 이르기까지 다양한 에치 응용 프로그램에서 사용할 수 있습니다. 이 시스템에는 고 유전체 상수 (k) 에칭 및 MEMS 제작에도 적용되어 있습니다. Core AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance Etch Unit은 사용하기 쉬운 프론트 엔드 인터페이스, 견고한 진공기, 독특한 쿼츠 에칭 챔버 및 지능형, 고정밀 제어 도구의 네 가지 구성 요소로 구성됩니다. 이러한 구성 요소 조합은 애플리케이션을 에칭하기 위한 강력한 플랫폼을 만듭니다. 또한 고성능 분광계, 고해상도 디지털 광학 자산, 화학 분석 기능을 사용하여 에치 (etch) 프로세스를 제어하고 모니터링할 수 있습니다. AMAT Centura Radiance는 광범위한 에치 화학 물질로 신뢰할 수 있고 반복 가능한 에치 결과를 제공합니다. 단일 또는 양면 에칭, 높은 종횡비 또는 높은 프로세스 균일성, 전체 웨이퍼 에치 또는 라인 패턴 에치, APPLIED MATERIALS Centura Radiance는 도전적인 에치 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다. 이 에치 원자로는 고성능 반도체 장치 개발에 강력한 도구입니다.