판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9266535

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD는 고급 전자 장치 생산을 위해 특별히 설계된 PVD (Physical Vapor Deposition) 장비입니다. 이 시스템은 단일 챔버 (single chamber) 에 여러 프로세스 기능을 제공하도록 만들어졌으며, 일부 모델에는 5 개 이상의 구성 옵션이 있습니다. 증착원과 주 챔버로 구성된 통합 원자로 (integrated reactor unit) 입니다. AMAT Centura PVD 기계의 메인 챔버 (main chamber) 는 진공 공구로, 에셋에 샘플 웨이퍼를 넣는 데 사용됩니다. "와퍼 '의 물질 을 짝수 로 흐르게 하기 위하여" 챔버' 를 기압 으로 유지 한다. 약실은 또한 전자빔 소스 (electron beam source), 필라멘트 (filament), 척 (chuck) 과 같은 모델의 요소에 전원을 공급하는 데 사용되는 전기 피드 스루로 구성됩니다. APPLIED MATERIALS Centura PVD 장비는 광범위한 증착원으로 구동됩니다. 바람직 하게도, 여기 에는 전자 "빔 '원 이 포함 되는데, 이것 은" 필라멘트' 로부터 "레이저 '" 에너지' 를 이용 하여 "웨이퍼 '표면 에 증착 시킨다. 전자빔은 침전 물질의 침투 깊이와 선택성 (selectivity) 의 깊이를 변화시키기 위해 조정 될 수있다. 저항성 및 RF 소스를 포함한 2 차 증착원을 사용하여 다층 증착을 생성 할 수 있습니다. 기판은 진공 척 (vacuum chuck) 을 통해 시스템에서 안전하게 고정되며, 이는 전자 조작 장치 (electronic manipulator arm) 에 장착됩니다. 이렇게 하면 작업 주기 동안 척 (chuck) 의 동작과 작업 간의 수동 위치 지정 (manual positioning) 이 가능합니다. 또한, 척에는 이온 게이지 (ion gauge) 가 장착되어 있으며, 이는 챔버 압력의 정확한 판독 값을 제공하여 증착 과정 전반에 걸쳐 높은 수준의 안정성을 보장합니다. 마지막으로, Centura PVD 장치의 다양한 소스와 구성 요소는 다양한 제어 소프트웨어 옵션 및 명령을 보완합니다. 여기에는 시스템 제어 강화 (Enhanced Control) 를 위한 고급 사용자 인터페이스 시스템, 프로세스 매개변수 모니터링 옵션, 하나의 원격 인터페이스에서 여러 시스템 운영 기능 등이 포함됩니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD 도구는 다양한 생산 환경에 적합한 종합 자산입니다. 이 모델은 다양한 증착 프로세스를 통해 생산의 품질과 정확성을 보장합니다 (영문). 또한 사용자 지정 제어 소프트웨어 (Customizable Control Software) 및 고급 소스 옵션을 통해 사용자는 프로세스를 더욱 효과적으로 제어할 수 있습니다.