판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9239622

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor는 균일성이 뛰어난 기판에 박막을 배치하도록 설계된 PVD (Physical Vapor Deposition) 도구입니다. 고급 멀티 호스 (Multi-hose) 및 멀티 건 (Multi-gun) 기술을 사용하여 기판에 매우 얇은 재료 층을 배치합니다. 이 도구의 높은 증착률은 반도체 장치 제작, 마이크로 일렉트로닉 포장, 의료 기기 생산, 광학 코팅 증착 (optical coating deposition) 등 다양한 응용 분야에 적합합니다. AMAT Centura PVD Reactor는 설치 공간이 작으며 다양한 설정과 구성에서 사용할 수 있도록 설계되었습니다. 다양한 프로세스 제어 기능을 갖춘 높은 처리량 시스템입니다. APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor의 공정 가스 전달 시스템은 최적의 가스 흐름 속도를 보장하고 증착 균일성을 극대화하기 위해 분배를 원자 화하도록 설계되었습니다. 통합형 배기가스 시스템 (Exhaust System) 은 휘발성의 효율적인 통풍을 가능하게 하며 증착 환경의 품질과 깨끗함을 보장합니다. 원자로는 또한 정확한 온도 관리를 위해 폐쇄 루프 온도 조절 시스템을 갖추고 있습니다. Centura PVD Reactor는 다른 PVD 도구에 비해 우수한 증착 균일성을 제공합니다. 원자로는 미세하게 과립 된 정밀 물질 (금, 은, 알루미늄, 티타늄, 지르코늄 등) 을위한 뛰어난 재료 적재 및 분산 기능을 가지고 있으며, 원하는 조합으로 광범위한 금속과 합금을 증착 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor (AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD 원자로) 는 기판 표면의 입자 충격을 최소화하여 매우 얇은 재료를 처리 할 때에도 일관되게 매끄럽고 균일 한 강착 층을 보장합니다. AMAT Centura PVD Reactor는 최적의 프로세스 제어를 위해 고급 자동화 및 제어 기술을 사용합니다. 내장 챔버 (chamber) 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 통해 프로세스 실행 전반에 걸쳐 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 자동 반응 챔버 설정 메뉴 (automated reaction chamber settings menu) 를 통해 레시피 설정을 쉽고 신속하게 조정하고 시간 (time) 과 재료 절약 (material savings) 을 수행할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactor는 대용량, 생산 규모 박막 증착 요구에 이상적인 솔루션입니다. 뛰어난 균일성, 정밀 프로세스 제어 (precision process control), 신뢰할 수 있는 자동화 기능을 통해 매우 얇고 균일한 레이어가 필요한 다양한 어플리케이션에 정밀 필름을 만들 수 있습니다.