판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PE-Silane #293820436

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PE-Silane은 반도체 제조에 사용되는 고급 재료 증착 공정을 위해 설계된 최첨단 원자로입니다. 이 원자로는 반도체 업계에 장비, 서비스, 소프트웨어를 공급하는 선두 업체인 AMAT (AMAT) 가 개발한 Centura 플랫폼의 일부입니다. PE-Silane 변형은 특히 반도체 웨이퍼에 박막을 증착하기위한 플라즈마 강화 실란 프로세스에 중점을 둡니다. AMAT Centura PE-Silane 원자로는 혁신적인 기술과 정밀 제어를 결합하여 뛰어난 균일성과 반복성을 갖춘 고품질 필름 증착을 달성합니다. 이산화규소 (SiO2), 질화 실리콘 (Si3N4) 및 탄화 실리콘 (SiC) 과 같은 실리콘 기반 재료의 증착을 포함하여 광범위한 용도에 활용 될 수있는 다재다능한 도구입니다. 이 재료는 현대 반도체 소자의 기초를 이루는 복잡한 구조와 층을 만드는 데 필수적이다. & # 160; & # 160; APPLIED MATERIALS Centura PE-Silane 원자로의 중심에는 플라즈마 흥분 및 화학 반응의 조합에 의존하는 PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) 공정이 있습니다. 실란 가스 (SiH4) 는 일반적으로 전구체 물질로 사용되며, 원하는 필름 조성에 따라 산소 (O2), 질소 (N2) 또는 암모니아 (NH3) 와 같은 다른 가스 원과 함께 원자로 챔버에 주입됩니다. Centura PE-Silane 원자로의 플라즈마 소스는 전구체 가스를 라디칼, 이온, 전자와 같은 반응성 종으로 분해하는 고에너지 플라즈마 장을 생성합니다. 그런 다음, 이러 한 반응 을 보이는 종 들 은 서로 반응 을 나타내고, 기판 표면 은 "박막 '을 이루며, 원하는 특성 을 갖는다. 혈장은 증착율을 향상시키고, 필름 품질을 향상시키고, 전통적인 열 CVD 기법과 비교하여 공정 온도를 낮출 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PE-Silane 원자로는 정밀한 프로세스 제어 및 최적화를 위해 여러 가지 고급 하위 시스템 및 구성 요소를 갖추고 있습니다. 챔버 (chamber) 설계는 효율적인 가스 흐름 및 균일 한 플라즈마 분배를 촉진하기 위해 신중하게 설계되어 웨이퍼 전체에 일관된 필름 두께를 갖습니다. 온도 조절 시스템 (Temperature control systems) 은 증착 과정 전반에 걸쳐 원하는 온도에서 기질을 유지하여 열 스트레스를 방지하고 필름 접착을 보장합니다. 원자로는 또한 전구체 가스를 정확하게 복용하고 안정적인 공정 환경을 유지하는 고급 가스 전달 시스템 (advanced gas delivery systems) 을 통합합니다. 압력 조절 메커니즘은 챔버 압력을 조절하여 플라즈마 조건을 최적화하고 가스 누출을 방지합니다. 또한, 고급 RF 전원 공급 장치는 플라즈마 생성 프로세스를 구동하여 효율적인 필름 증착에 필요한 에너지를 제공합니다. 생산성과 유연성을 높이기 위해 AMAT Centura PE-Silane 원자로에는 고급 자동화 및 소프트웨어 제어가 장착되어 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 레시피 프로그래밍, 실시간 모니터링, 데이터 로깅 (Data Logging) 을 통해 여러 운영 실행 간에 일관된 프로세스 성능과 빠른 레시피 전송을 보장할 수 있습니다. 원자로는 원활한 웨이퍼 처리 및 처리량 증가를 위해 클러스터 도구 (cluster tool) 구성으로 통합 될 수도 있습니다. 결론적으로, APPLIED MATERIALS Centura PE-Silane 원자로는 반도체 제조에서 플라즈마 강화 실레인 증착 공정에 대한 최첨단 솔루션을 나타냅니다. 첨단 기술, 정밀 제어 시스템 (Precise Control System), 자동화 기능을 통해 다양한 반도체 애플리케이션을 위한 고성능 박막 (Thin Film) 을 제작할 수 있습니다.