판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura P5000 #293651591
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura P5000은 유전체, 수동화, 접착 및 장벽 층뿐만 아니라 고급 장치 구조를위한 뛰어난 박막 안감 재료를 생산하기위한 저압, 다중 원자로, 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 이 다목적 원자로는 광범위한 반도체 공정 응용에서 증기 증착 (vapor deposition) 및 코팅 후 연간 (post-coating anneal) 과 같은 중요한 프로세스 단계에 높은 처리량과 뛰어난 균일성을 제공합니다. 이 시스템은 여러 개의 주 처리 실과 기판 사전 청소, 에칭 및 후처리 기능을위한 최대 4 개의 추가 프로세스 챔버로 구성됩니다. 주요 공정 챔버에는 2 개의 1 차 공정 소스 (일반적으로 2 개의 서셉터 홀더) 가 있으며, 이는 질화 실리콘, 산화 실리콘, 산화 알루미늄, 산화 탄화 탄탈 알루미늄, 질화 알루미늄, 카바이드 실리콘 및 기타 장벽 재료와 같은 단일 및 다중 층의 물질을 증착 할 수 있습니다. 감수기 홀더는 온도, 압력, 전력 및 증착률을 내부 조정할 수 있도록 설계되었습니다. 이렇게 하면 응용 프로그램 매개변수를 세밀하게 조정할 수 있는 유연성이 높아지고, 기탁된 재료의 균일성을 얻을 수 있습니다. 1 차 공정 챔버는 소스와 기판 사이에 최대 30cm의 기판을 수용 할 수 있습니다. 루프 (closed-loop) 피드백이 적용된 시스템 최첨단 이미징 장치는 정밀 레이어 제어를 위한 실시간 이미징 기능을 제공합니다. AMAT Centura P5000 원자로는 게이트 유전체, 수동화, 접촉 장벽, 접착 및 유전체 박막 증착과 같은 다양한 반도체 응용 분야에 사용될 수 있습니다. 이 기계는 또한 얕은 트렌치 격리, 초얕은 접합 형성, 고 k 퇴적 및 어닐링, 실라이즈 접점, 접착 및 표면 조절, 기타 후처리 기능에 적합합니다. APPLIED MATERIALS Centura P5000은 높은 처리량, 향상된 프로세스 제어, 뛰어난 균일성 등 반도체 제조에서 많은 이점을 제공합니다. 또한 고속 로드 잠금 (High Speed Loadlock), 자동 리모콘 (Automated Remote Control), 간편한 프로세스 레시피 (Process Recipe) 등의 다양한 사용자 친화적 기능을 통해 고객의 요구 사항을 보다 효과적으로 제어하고 유연하게 관리할 수 있습니다.
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