판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #9137520

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II는 화학 증기 증착 (CVD), 화학 기계 평면 화 (CMP) 및 원자층 에칭 (ALE) 응용을 위해 특별히 설계된 원자로입니다. 화학공정 (chemical process) 과 기계공정 (mechanical process) 을 활용해 반도체 소자를 제작하고 정제하는 단일웨퍼 (single-wafer) 처리 장비다. 이 시스템에는 강력한 4.5kW 소스 제너레이터 (source generator) 가 장착되어 있어 증착률이 높고 정밀도가 높은 에칭이 가능합니다. AMAT Centura II는 독점 멀티 챔버 (Multi-Chamber) 디자인을 통합하여 각 챔버를 독립적으로 제어할 수 있으며 최대 챔버 압력은 최대 6 Torr입니다. 이 장치에는 또한 특허 된 가스 전달 머신 (gas delivery machine) 이 포함되어 있어 프로세스 전반에 걸쳐 일관된 가스 혼합물을 보장합니다. 설치된 APPLIED MATERIALS CENTURA-II 원자로의 챔버 크기는 사용자의 요구에 따라 50mm 챔버에서 500mm 챔버까지 다양합니다. 온도 조절 웨이퍼 피로미터, 속도 제어 회전 및 조깅 단계, 엔드 포인트 감지 (End Point Detection) 등 다양한 고급 기능이 있습니다. 이 정밀 제어 및 정확성은 매우 정확하고 반복 가능한 프로세스를 가능하게합니다. AMAT CENTURA-II 원자로는 실행 (run-to-run) 프로세스 제어 기능으로 자동화된 프로세스를 가능하게 하여 대용량 생산에 적합합니다. 센츄라 (Centura) 실험실 시스템에 사용된 진공 (vacuum) 기술과 하드웨어 (hardware) 를 기반으로 하여 실험실에서 운영 환경으로의 뛰어난 확장성과 전환을 가능하게 합니다. 프로세스 안전을 위해 CENTURA-II 원자로에는 주요 작동 매개변수 (예: 압력, 온도, 가스 분포) 를 모니터링 및 제어하는 내장 진단 도구가 있습니다. 에셋에는 모델 조건과 컨트롤러 매개변수를 원격으로 볼 수 있는 고급 모니터링 디스플레이 (Advanced Monitoring Display) 도 포함되어 있습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA-II는 다양한 CVD, CMP 및 ALE 응용 프로그램에 적합한 다용도, 신뢰성 및 강력한 원자로 장비입니다. 특허 받은 기능과 고급 제어 기능을 갖춘 APPLIED MATERIALS Centura II는 반도체 장치 제조에 귀중한 도구입니다.