판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II #184086

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II 원자로는 금속, 유리 및 반도체와 같은 다양한 재료를 에칭 및 청소하기위한 최첨단 도구입니다. 이 견고하고 안정적인 원자로는 기판 크기, 에치 깊이, 선택성 측면에서 높은 유연성을 제공합니다. 이를 통해 반도체 제작, 포토마스크 (photomask), MEMS (MEMS) 등 첨단 기술 업계에서 제품을 만드는 데 필요한 광범위한 프로세스 단계에 사용할 수 있습니다. AMAT 센츄라 II (Centura II) 는 배치 및 단일 웨이퍼 처리를 처리하도록 설계되었으므로 단일 웨이퍼 및 배치 어플리케이션 모두에 적합합니다. 유도 결합 플라즈마 (ICP) 기술을 사용하여 에치 플라즈마를 생성합니다. 이를 통해 사용 가능한 다른 에치 프로세스보다 뛰어난 균일성 및 선택성이 가능합니다. ICP 소스에는 조정 가능한 전원 수준, 압력 조절 (pressure regulation) 및 펄스 (pulse) 옵션이 있어 특정 응용 프로그램에 대해 에칭 프로세스를 조정할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA-II 원자로에는 자동 로드 락 (load-lock) 장비가 제공되어 진공을 깨지 않고 기판 적재 및 언로드가 가능합니다. 따라서 처리량이 높고 작업이 효율적입니다. 또한, 원자로는 에칭 과정에서 정확한 환경을 보장하기 위해 자동 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 과 RF 발전기 (generator) 를 갖추고 있습니다. 이 원자로에는 정교한 공정 제어 장치 (process control unit) 가 장착되어 있어 가스 흐름, 전원 수준, 챔버 압력 및 기타 프로세스 변수를 조정할 수 있습니다. 또한 사용자는 시간에 따라 etch 프로세스 결과를 모니터링, 기록 및 분석할 수 있습니다. 이를 통해 일관되고 고품질의 제품 결과를 확인할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura II 원자로는 에치 (etch) 프로세스에 도전하기 위해 이상적인 솔루션입니다. 강력한 프로세스 제어 (Strust Process Control) 와 일관되게 정확한 결과의 독특한 조합으로, 하이테크 산업에는 없어서는 안될 도구입니다.