판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II IPS #115406

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II IPS는 반도체 제조 공정에 사용되는 고급 멀티 웨이퍼 제조 원자로 장비입니다. 이 원자로 시스템은 고온 및 고압 반응성 이온 에칭 (RIE), 플라즈마 강화 화학 증발 (PECVD) 및 기타 고급 제조 공정을 수행 할 수 있습니다. 이 장치는 최대 8 인치의 광범위한 웨이퍼 크기로 시간당 최대 200 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 기계는 안전하고 경제적인 생산 프로세스를 제공하지만, 정확성과 반복성을 유지하도록 설계되었습니다. AMAT Centura II IPS에는 2 개의 독립적 인 공정 구역이있는 독특한 IPS 챔버 (IPS Chamber) 가 장착되어 있으므로 사용자는 각 챔버에서 가스 흐름과 온도를 독립적으로 제어 할 수 있습니다. 또한 IP 챔버 (IPs chamber) 는 전체 챔버보다 우수한 온도 균일 성을 제공하여 더 균일 한 처리 결과를 제공합니다. 원자로는 또한 큰 챔버-배제판 (chamber-keepout plate) 을 특징으로하며, 이는 더 크고 복잡한 설계 규칙을 가능하게한다. 이 도구는 또한 고전압 전원 공급 장치를 사용하여 더 빠른 반응성 이온 에칭을 가능하게합니다. 자산은 etching, deposition, planarization 및 기타 여러 프로세스 관련 작업을 포함한 다양한 프로세스를 처리 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 polysilicon, poly-SiO2, poly-SiN 및 기타 여러 재료와 같은 다양한 재료를 처리 할 수 있습니다. 이 장비는 또한 중복 안전 셔터, 연동 밸브, 폭발 방지 인감 (explosion-proof seal) 과 같은 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이 시스템에는 첨단 소프트웨어, 전자 제품 (Electronics) 이 장착되어 있어 원자로 환경을 보다 효과적으로 제어할 수 있으며, 높은 반복성, 정확성, 품질이 제공됩니다. 이 장치는 또한 예측 분석 (predictive analytics) 을 사용하여 포화 (saturation) 이 발생하기 전에 프로세스 결함 예측 및 웨이퍼 거부를 허용합니다. 결론적으로 APPLIED MATERIALS Centura II IPS는 고도로 고급적이고 매우 효율적인 멀티 웨이퍼 제조 원자로입니다. 시간당 최대 200 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며, 높은 수준의 정확성과 반복 성을 유지합니다. 고유한 IPS 챔버 및 기타 안전 기능으로 인해 툴이 안전하고 비용 효율적입니다. 첨단 소프트웨어와 전자 제품 (Electronics) 은 원자로 환경을 보다 효과적으로 제어할 수 있어 생산량이 많고 업무 중단이 적습니다.