판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9212833
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판매
ID: 9212833
웨이퍼 크기: 8"
Metal etcher, 8"
Loadlock: Wide
Robot: VHP+
Position A: Metal DPS+
Position B: Metal DPS+
Position C: ASP+
Position D: ASP+
Position E: Fast cooldown
Position F: Orienter
Chamber A / B:
Process application: DPS+
Upper chamber body anodizing
Electrostatic chuck type: Polymide
SEIKO SEIKI STPH 1303C Turbo pump
DTCU: E-EDTU
Endpoint type: Monochromator
Bias generator: OEM 12B (-08)
Bias match: 0010-36408
Source generator: ENI GMW-25A, 2500W
Throttle valve & gate valve: VAT TGV
Chamber C / D:
Process kit: Chuck
Auto tuner: Smart match 3750-01106
Magnetron head: 0190-09769
Generator: ASTEX AX2115
Process control: Manometer
Gas box:
VDS Type: 750 SCCM
IHC Module: MKS 649
Transfer chamber options
Transfer chamber manual lid hoist
Robot type: VHP+
Cable: Umbrical
Length: 55 Ft.
APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 는 이전 모델에 비해 뛰어난 제어 및 정밀도를 제공하기 위해 개발 된 고급 자동 반도체 공정 원자로입니다. 이 고속 원자로는 나노 채널 회로 (nanochanneled circuit) 와 구조 (structure) 를 포함하여 웨이퍼를 정확하고 빠르게 에치하고 빠른 스퍼터 증착 및 리프트 오프 작업을 수행하도록 설계되었습니다. 원자로에는 디지털 스캐닝 스테이지, 잘 설계된 마이크로 프로세서 제어 장비, 박막 제품의 매우 정밀한 원자 전달 및 증착이 가능한 2 단계 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 이 장착되어 있습니다. 3 개 지역 RF 바이어싱 모듈을 갖춘 Centura II DPS + 는 에칭, 스퍼터링 및 증착 작업에서 고급 균일성을 제공하도록 설계되었습니다. 이 탁월한 균일성을 통해 최적의 제품 사양뿐만 아니라, 상당한 시간 및 비용 절감 효과를 얻을 수 있습니다. 통합 화학 전달 및 펌프 장치를 통해 APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 는 프로세스 최적화를 위해 가스 소비를 정확하게 제어 할 수 있습니다. Centura II DPS + 의 디지털 스캐닝 단계는 최신 데이터 통합 및 제품 추적 툴을 통해 고속, 자동, 재현이 가능한 웨이퍼 처리 환경을 제공합니다. 또한, 기계는 최근에 방사형-벡터 스캐닝을 허용하여, 웨이퍼 모양 조건을 개선하면서 처리량을 증가시킬 수 있도록 개발되었습니다. APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 의 마이크로 프로세서 제어 도구는 자동 온도 조절, 스캔 속도 제어, 프로그램 스케줄링, 명령 통합 등 다양한 강력한 기능을 제공합니다. 또한, 이 자산은 사용자에게 조정 가능한 가스 농도 수준, 프로세스 레시피 미세 조정, 효율적인 주기 시간 최적화 등 다양한 맞춤형 기능을 제공합니다. 센츄라 II DPS + (Centura II DPS +) 의 고도로 고급 기계적 설계는 모델이 매우 낮은 진동 흥분과 낮은 전기 누출을 제공함에 따라 정확하고 오래 지속되는 작동을 보장합니다. 또한, 이 원자로의 제품은 비활성 가스 차폐 격리 장비 및 질소 회로 기술 덕분에 수명이 연장되었습니다. APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 의 탁월한 기능 덕분에, 이 시스템의 사용자들은 각 실행에서 뛰어난 정확성과 정확성을 누릴 수 있으며, 품질이나 효율성을 저해하지 않고도 생산 프로세스를 최적화할 수 있습니다.
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