판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS+ #9202744

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 는 생산 용도로 설계된 고급 플라즈마 처리 시스템입니다. 이 멀티 챔버, 3 개의 스테이션 원자로는 증착, 에치 및 소스 챔버 기능을위한 전체 소형 패키지에서 최대 기능을 제공합니다. AMAT Centura II DPS + 원자로는 비용 효율적인 생산성과 균일성에 최적화되어 처리량 및 프로세스 제어가 향상되었습니다. APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 의 EMS 챔버는 다른 기판에서 반도체 에피 택시 증착을 위해 설계되었습니다. 실리콘-게르마늄, GaN, 다이아몬드 및 탄소 나노 튜브와 같은 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 원자로에는 높은 증착률과 뛰어난 균일성을 제공하는 Wide Energy Bandwidth Crucible이 포함되어 있습니다. 또한 기본 제공되는 Auto-Scan 기능을 사용하여 최대 5 개의 레시피를 프로그래밍 할 수 있습니다. Centura II DPS + 의 EOS 챔버는 매우 다재다능한 에치 시스템입니다. 금속 및 반도체의 에칭을 포함하여 습식, 건조 및 하이브리드 처리 기술을 지원합니다. 챔버에는 전력, 압력, 온도, 유량 등 여러 에치 매개변수의 정밀 제어가 장착되어 있습니다. 이 시스템은 프로세스 유연성과 균일성을 극대화하여 다양한 기판 (substrate) 과 기판 (substrates) 크기를 허용하도록 설계되었습니다. 마지막으로, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPS + 의 소스 챔버는 증착 전구체에 신뢰할 수있는 소스를 제공합니다. 그것 은 여러 가지 기화 한 재료 를 처리 하도록 설계 된 대용량 "로터리 밸브 '를 입혔다. 약실은 또한 매우 낮은 동적 압력으로 빠른 재 활성화 속도를 특징으로합니다. 이러한 기능은 프로세스 안정성을 획기적으로 향상시킵니다. 전반적으로 AMAT Centura II DPS + 원자로는 생산 용도에 이상적인 안정적이고 강력한 도구입니다. 강력한 멀티 챔버, 3 스테이션 설계로, 사용자는 향상된 열 및 챔버 균일성, 최대 처리량을 활용할 수 있습니다. 원자로는 여러 매개변수를 정확하게 제어하여 다양한 증착, 에치 (etch), 소스 프로세스 (source process) 를 처리 할 수 있으므로 제조 요구에 최적의 선택이 가능합니다.