판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9184826
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ID: 9184826
웨이퍼 크기: 8"
WCVD System, 8"
WxZ
(3) Chambers
Main body
ENI Generator rack
Monitor rack
System controller
(4) Covers
(2) Cables
Mainframe: Centura I Phase I
Chamber A:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber B:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm JMF
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber D:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber E: Single cool
Chamber F: Oriental
Robot: HP
Load lock: Wide body
Gas box: CI
No heat exchanger
Umbilical length:
CA Chamber A, B, C & D: 50 FT
Gas configuration:
Chamber A, B & D:
WF6 / 200
WF6 / 50
C2F6 / 500
AR / 3000
O2 / 1000
SiH4 / 300
H2 / 500
H2 / 2000
N2 / 300
Control rack:
Serial isolator
System reset
(2) Lk Det 1&2 / Conv/TC
No floppy disk drive
No hard disk drive
Chamber interfaces: A, B, D & E
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, D: DI/O 1&2
No chamber C: DI/O 1&2
Chamber E: DI/O
Synergy SBC
No controller, 486 V
No APC VME Seriplex PCB
SEI
Chamber A, B, D: AI/O
No chamber C AI/O
Mainframe AI/O
Chamber E/MF AI/O 2
(6) Mainframes DI/O
(3) Steppers
OMS.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I은 다양한 재료의 박막의 단일 또는 이중 챔버 증착을 위해 설계된 소형, 대용량, 고성능 화학 증기 (CVD) 원자로입니다. AMAT Centura I 원자로는 닫힌 대기 압력 원자로가있는 단일 챔버 장비로 설계되었습니다. 이 시스템은 강력한 가변 주파수 유도 가열 단위로 구동되며, 최대 1,000 ° C의 온도를 달성 할 수 있습니다. 금속 증기 반응물은 상단을 통해 반응 챔버 (reaction chamber) 에 도입되고, 기질은 전면에서 적재 및 언로드 (unloaded) 된다. APPLIED MATERIALS Centura I 원자로에는 RF 발전기가 장착되어 있으며, 이 발전기는 전력 제어, 온도 조절, 반응물 흐름 속도 제어, 반응물 혼합 제어 등 다양한 방법으로 프로세스를 제어할 수 있습니다. 동봉 된 증착실은 가압되어, 금속 및 반도체를 포함한 다양한 기질에서 서브 미크론 박막 (submicron thin film) 의 증착을 허용한다. 또한, Centura I 원자로는 가변 주파수 전원 공급 장치를 특징으로하여 공정의 정확한 제어를 허용합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I 원자로의 밀폐 증착실은 불순물 노출을 최소화하여 영화 품질을 향상시킵니다. 진공실 은 "알루미나 '" 라이너' 로 석영 으로 만들어져 증착 과정 에 불활성 인 대기 를 제공 한다. 이 장치 는 내구성 이 매우 강한 "스테인레스 '강철 로 완성 되어 기판 의 오염 을 방지 하고, 증착 과정 을 감시 하기 위한 광학" 창' 을 설치 한다. AMAT Centura I은 비용 효율적인 고성능 CVD 머신으로, 다양한 재료에 걸쳐 고품질의 박막 (Thin Film) 을 증착하는 안정적인 프로세스 제어를 제공합니다. 작동이 간편한 도구는 내구성과 신뢰성이 뛰어난 박막 (Thin Film) 을 일관되게 제작할 수 있어 프로토 타입 (Prototyping) 과 산업 생산 (Industrial Production) 모두에 널리 사용됩니다.
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