판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9093472

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Reactor는 고온 화학 증기 증착 (CVD) 반도체 처리 장비입니다. 유전체를 증착하고 웨이퍼 기판에 필름을 운반하도록 설계되었습니다. AMAT Centura I 원자로는 열로 분리 된 박스 시스템으로, 반도체 제조를위한 효율적이고 안정적인 플랫폼으로 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS Centura I에는 수평 챔버와 수직 밸브 매니 폴드가 장착되어 있으며, 둘 다 스테인리스 스틸 케이싱에 보관되어 있습니다. 이 장치는 고온 공정 가스 흐름을 사용하며 최대 300 mbar 작동 압력이 가능합니다. 또한, 챔버는 전자 빔-처리 내성 층 (electron-beam-treatment-resistant layer) 으로 코팅되어 핫스팟 온도를 줄이며 전자 빔 조사 손상을 최소화합니다. 또한 Centura I 는 직관적인 소프트웨어 인터페이스, 통합 자동 센터 구성, 내부 백업, 프로세스 제어 자동화 기능 등 다양한 혁신적인 기능과 고급 프로세스 기능을 제공합니다. 이 기계는 또한 공정의 실시간 시각화 (Visualization) 를 특징으로하며, 정밀한 증착 제어를 위해 가스 흐름 및 압력 수준을 제어하는 기능을 제공합니다. 이 도구는 고도로 균일 한 전력 분배가있는 교체 가능한 서셉터 플레이트로 구성됩니다. 이 "플레이트 '는 전기적 으로 가열 되어 기판 의 장착 면 역할 을 하는 흑연" 플레이트' 로 되어 있다. 이 서셉터 플레이트는 강착 과정이 시작되기 전에 미리 가열되며, 고른 온도 분포를 보장합니다. 에셋에는 고속 포지셔닝 모델이 장착되어 있는데, 이 모델은 기판을 증착 주기 내내 10 cm/s의 최대 균질 한 속도로 움직입니다. 또한, 장비는 기판의 열적으로 유발 된 움직임을 보상 할 수 있으며, 안전하고 잘 분산 된 증착을 보장하기 위해 특수 잠금 장치 (specialized locking mechanism) 를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 공정 가스 분배를위한 통합 바이 패스 (Integrated bypass) 흐름 제어 장치로 더욱 향상되었습니다. 이 기계를 사용하면 정확한 증착 제어를 위해 정확한 가스 흐름을 만들 수 있습니다. 또한, 이 도구에는 현장 프로세스 제어 및 최적화를 위한 고급 실시간 최적화 (RTO) 모듈이 포함되어 있습니다. 이 모듈은 프로세스 매개변수를 실시간으로 최적화하고 정확하고 정확한 증착 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Reactor는 유전체를 증착하고 웨이퍼 기판에 필름을 운반하도록 설계된 혁신적이고 최첨단 반도체 처리 자산입니다. 이 모델은 정확한 증착 제어, 뛰어난 균일성 및 반복 성을 제공하도록 설계되었습니다. 또한 특수 기능 (specialized features) 과 가공 가스 (process gase) 를 사용하여 정확하고 정확한 증착 결과를 보장하도록 설계되었습니다.