판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9215491

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi 원자로는 반도체 제조에 사용되는 수직 원자로입니다. 반도체 칩 생산에 사용되는 실리콘 웨이퍼 (Silicon wafer) 에서 박막 (thin film) 을 생산하는 데 사용되는 증착 시스템입니다. Epi Reactor는 세 가지 주요 구성 요소 (주 챔버, 주 캐리어 및 보조 챔버) 로 구성됩니다. 메인 챔버 (main chamber) 는 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 구성되며 웨이퍼가 배치 된 상단 섹션과 웨이퍼 지원 캐리어가 장착 된 하단 섹션으로 구성됩니다. 메인 캐리어 (main carrier) 는 메인 챔버 주변을 운행하는 2 개의 캐러셀 시스템입니다. 이 "시스템 '은" 웨이퍼' 에 여러 층 을 증착 할 수 있게 해 준다. 2 차 챔버 (secondary chamber) 에는 증착 물질의 증착에 균일성을 보장하기 위해 사용되는 더미 웨이퍼가 장착되어 있습니다. Epi Reactor는 화학 증기 증착 (CVD) 공정을 생성하여 작동합니다. 이 과정 에는 원자로 내부 에 화학 전구체 (예: 실리콘 도펀트 "가스 '나 유기물 등) 를 가진" 가스' 의 위치 가 포함 된다. 그런 다음 "가스 '는 그 과정 에 의해 결정 되는 온도 로 가열 된다. 가열 된 "가스 '는" 웨이퍼' 와 반응 하여 표면 에 얇은 "필름 '을 형성 한다. 이 "필름 '의 두께 는 공정 의 온도," 웨이퍼' 가 원자로 에 보내는 시간, 사용 된 "가스 '의 화학적 조성 에 달려 있다. 에피 원자로 (Epi Reactor) 는 반도체 생산을위한 신뢰할 수있는 도구이며, 얇은 층을 빠르고 일관되게 증착 할 수 있습니다. 고온 기능을 통해 더 복잡한 레이어 (예: 다른 재료의 스택 레이어) 를 증착할 수 있습니다. 증착 온도 (deposition temperature) 를 정확하게 보정하고, 레이어의 두께를 제어하는 기능을 통해 높은 수율 (Hi Yield) 과 높은 품질의 레이어 (Layer) 를 얻을 수 있으므로 반도체 생산의 필수 요소입니다. 에피 원자로 (Epi Reactor) 는 최강의 안전 기능과 엄격한 유지 보수 점검 덕분에 반도체 업계에서 가장 안정적이고 효율적인 원자로 중 하나입니다. 단순한 설계 (design) 와 단순한 사용자 인터페이스 (user interface) 는 다양한 생산 요구에 적합한 비용 효율적인 솔루션으로, 고온 기능을 통해 가장 발전된 계층 구조 (layer structure) 와 재료 (material) 를 증설할 수 있습니다.