판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMxP+ #9248728

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ID: 9248728
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1998
Oxide etcher, 8" NBLL, 8" (3) Chambers Load locks: Narrow body Frame: Centura 5200 (3) Process chambers: Chamber A: Hybrid, eMxP+ Chamber B: Hybrid, eMxP+ Chamber C: Hybrid, eMxP+ Chamber F: Orientor Robots: VHP+ Chuck type: ESC Signal tower (front): Green, yellow, red System control and AC rack Smoke detector Remote UPS interface Generator rack Water leak detector (3) BOC EDWARDS STP-301CB1 Pumps Hard Disk Drive (HDD) Line frequency and voltage: 50/60 Hz, 208 V, 3-Phase 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMxP + 원자로는 반도체 제작 프로세스에 사용되는 중요한 도구입니다. 에치 및 옥시 니트 라이드 응용을위한 높은 증착률과 우수한 균일 성을 제공하는 혈장 강화 화학적 증착 (PECVD) 장비입니다. eMxP + 는 400mm 직경의 처리 챔버를 특징으로하며, 기존 원자로보다 더 큰 기판 및 더 높은 처리량을 허용합니다. 독특한 챔버/로드 디자인은 증착 환경 및 프로세스를 정확하게 제어하는 데 도움이됩니다. 또한 eMxP + 는 고급 4 차 RF 전원 조합기를 사용하여 최대 3 개의 프로세스 가스를 모든 조합으로 사용할 수 있습니다. 이를 통해 증착의 제어 및 처리가 향상됩니다. 또한 eMxP + 는 최신 RF 발전기 기술을 사용하여 모든 어플리케이션에서 높은 전력 공급 및 최고 온도 균일성을 제공합니다. eMxP + 는 균일성과 반복성을 위해 설계되었습니다. 그것은 균일 한 전처리 온도를 보장하기 위해 별도의 정적 웨이퍼 온난화 시스템 (static wafer-warming system) 을 특징으로하며, 기질 보유자로부터 입자 오염의 잠재력을 최소화합니다. 기판 냉각 장치는 프로세스 변화를 최소화하고 일관된 결과를 유지하는 데 도움이됩니다. 또한 eMxP + 에는 온도 및 증착 프로파일 피드백을 갖춘 컨트롤 머신 (Control Machine) 이 장착되어 있어 정밀한 온도 및 증착 제어 (최대한의 균일성) 를 제공합니다. eMxP + 는 최고의 프로세스 유연성을 제공합니다. eMxP + 는 독보적인 듀얼 라이트 파이프 (Dual Light Pipe) 설계를 통해 가장 빠른 램프 다운 및 램프 업을 수행할 수 있으므로 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 챔버 (chamber) 설계로 인한 높은 증착 처리량 및 균일성은 높은 생산성 응용에 이상적입니다. AMAT Centura eMxP + 는 기능 외에도 안전 및 환경 보호 기능이 내장되어 있습니다. 공구의 내부 및 외부 부분의 열 싱크 (heat sink) 와 실드 (shield) 는 방으로의 열 전달을 줄이고 더 안전한 작업 환경을 제공합니다. IED 호환 냉각 자산은 폐기물 가스 소산을 최소화하는 한편, 샘플 오염 가능성을 낮춥니다. APPLIED MATERIALS Centura eMxP + 는 고 생산성 반도체 제작 어플리케이션을 위해 설계된 강력하고 효율적인 원자로입니다. eMxP + 는 모든 조합에서 최대 3 개의 공정 가스를 실행하고 400mm 직경의 처리 챔버를 특징으로하며, 최고 수준의 증착 균일성과 반복 성을 제공합니다. 고급 난방 장치 (heating and cooling system) 를 통해 최대 온도 균일성과 프로세스 유연성을 제공합니다. 또한 안전한 작업 환경을 위해 안전 및 환경 보호 기능이 내장되어 있습니다.
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