판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9260048

ID: 9260048
웨이퍼 크기: 8"
System, 8" Model: Centura 5200 I (3) Chambers Centura 5200 I PH2 Mainframe Loadlock: Wide body SBC: V452 Robot: VHP+ Loadlock features: Body loadlock: Wide body Slit valve door O-ring: Viton UNIVERSAL Wafer / Cassette sensors Manual lid hoist Helium cooling: MKS 649 Gas panel type: Seriplex MFC Type: Unit 8160 No dummy wafer storage eMax Chambers A, B and C Gate valve: VAT MKS Manometer, 1 Torr Chuck: Ceramic ESC ALCATEL ATH 1600 Turbo pump ALCATEL ACT 1300 M Turbo pump controller RF Match box: 0010-30686 ENI OEM 28B RF Generator Endpoint type: Hotpack Chamber F: ORIENT Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax는 집적 회로 (IC) 제조에 사용되는 Centura 시리즈 고급 에치 및 증착 원자로의 업그레이드 버전입니다. 업계 최고의 장비로, 탁월한 장치 성능과 프로세스 제어를 제공하도록 특별히 설계되었습니다. 시스템에 10 개의 플레이트, 단일 챔버 소스 구성이 장착되어 있습니다. 이 구성을 통해 처리량 향상, 생산성 향상, 에칭/증착 프로세스 유연성 향상 등의 효과를 얻을 수 있습니다. 액티브 가스 유통 기술, 플라즈마 소스 (plasma source) 및 독점 RF 장치 (RF unit) 를 통해 기계는 에칭 및 증착 과정을 효율적으로 제어합니다. 이 툴은 통합된 고급 프로세스 모니터 (Advanced Process Monitor) 와 짝을 이루어 사용자에게 원하는 프로세스 결과를 대상으로 하는 향상된 기능을 제공합니다. 또한 기본 제공되는 클리닝 기능과 자동 튜닝 가능 필터 (automated tunable filter) 를 통해 사용자가 증착 과정을 최적화할 수 있습니다. 자산은 기판 전체에 걸쳐 균일 한 재료 분포를 사용하므로, 제조 중 수동 개입이 필요하지 않습니다. 이는 프로세스를 크게 단순화하고, 사람의 오류의 가능성을 줄여줍니다. AMAT 센츄라 이맥스 (Centura eMax) 에는 에칭 프로세스 중 안정된 온도를 유지할 수 있는 고급 온도 조절 모델도 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 IC 기판의 여러 레이어가 동일한 정밀도로 에칭되고, 결과적으로 레이어 단위의 두께가 균일해집니다. 또한 이 장비는 속도와 처리량 (throughput) 에 최적화되어 효율성이 극대화된 IC를 만들 수 있습니다. 이것은 수직 통합과 컴팩트 팩터 (compact factor) 설계를 사용하여 촉진됩니다. 첨단 기술 외에도 APPLIED MATERIALS Centura eMax 는 사용자에게 친숙한 제품으로서, 사용자가 쉽게 시스템을 관리하고 모니터링할 수 있습니다. 사용자 인터페이스에는 직관적인 비주얼 큐 (visual cue) 와 프로세스 관리를 단순화하고 오류 발생 가능성을 줄이는 대화형 워크플로우 (Interactive Workflow) 가 포함되어 있습니다. 전반적으로 Centura eMax는 탁월한 장치 성능 및 프로세스 제어를 위해 설계된 업계 최고의 고급 에치 (etch) 및 증착로입니다. 이 제품은 속도, 처리량, 정확도에 최적화되어 효율성을 극대화하면서 고품질 IC를 제작할 수 있습니다.
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