판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9227021

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax 원자로는 고급 석판화 시스템 제조에 필요한 중요한 칩 에칭 기술을 제공하는 고도의 반도체 원자로입니다. 이 원자로는 까다로운 반도체 공정의 수요를 충족시키기 위해 극도로 정확하고 안정성이 높은 정밀한 마이크로 머시닝 (micro-machining) 을 가능하게 합니다. AMAT Centura eMax 원자로의 중심에는 고급 융합 실리카 재료로 건설 된 고급 에칭 챔버 (etching chamber) 가 있습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 다양한 제조 조건에서 우수한 열 안정성과 탁월한 환경 제어를 제공합니다. 약실은 최대 300 ° C의 온도에서 유지되며, 이는 공정 속도를 높이는 데 도움이됩니다. 또한, 간단한 디자인은 빠른 반응 시간을 보장하여 오차를 줄이고 수율을 증가시키는 데 도움이됩니다. 챔버에는 고유 한 CCD 이미징 시스템 (CCD Imaging System) 이 장착되어 있어 프로세스 챔버를 빠르고 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 이것은 최적의 기판 정렬을 보장하여 더 높은 수율, 더 적은 기판 결함으로 이어집니다. 리소그래피 프로세스의 정확성과 속도를 향상시키기 위해 고유한 Photon Etch Pulse System이 포함됩니다. 이 시스템은 에칭 프로세스의 균일성을 향상시키는 데 도움이됩니다. 가열 된 에칭 챔버 (eching chamber) 는 높은 수준의 정밀도 및 반복 성을 제공하는 고급 마그네트론으로 구동됩니다. 이 고도로 통제된 환경은 프로세스 관련 변동성을 줄이고, 비용을 절감하는 동시에, 가능한 가장 높은 수율을 유지하는 데 도움이 됩니다. 광범위한 레시피 라이브러리 인 APPLIED MATERIALS Centura eMax Reactor를 사용하여 고가용성 (High Aspect Ratio) 구조, 저전압 프로세스 관리, 고속 에칭 등 다양한 장치 요구를 충족하도록 손쉽게 조정할 수 있습니다. 원자로는 또한 활성 냉각벽, 열 차단, fail-safe 검증 잠금 등 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 모든 기능은 안전하고 안정적인 리소그래피 프로세스를 보장하기 위해 결합됩니다. 원자로 (Reactor) 는 원격 모니터링 기능도 갖추고 있어, 프로세스를 실시간으로 원격으로 업데이트할 수 있습니다. 요약하면, Centura eMax 원자로는 고급 반도체 제조 공정에 대한 뛰어난 수준의 반복성과 정확성을 제공하는 고급 에칭 및 리소그래피 도구입니다. 이 최첨단 장비는 가장 까다로운 프로세스 요구사항을 충족하는 한편, 사용자의 마음의 평온 (peace of mind) 과 프로세스의 총체적 제어 (total control) 를 처음부터 끝까지 제공할 수 있습니다.