판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax CT+ #9259969
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax CT + 는 처리량과 효율성이 최대인 최고 품질의 반도체 재료를 생산하도록 설계된 차세대 반도체 원자로입니다. 이 장비는 에피 택시 (epitaxy), 이온 임플란테이션 (ion implantation) 및 스페이서 에치 (spacer etch) 를 포함한 모든 프로세스 도구를 제공하며, 고진공정 챔버, 초고온, 저소음 및 저진동 환경과 같은 고급 프로세스 기능을 제공합니다. 고출력, 저결함 생산. AMAT Centura eMax CT + 는 또한 균일하고 일관된 웨이퍼 도펀트 프로파일 (wafer dopant profile) 과 균일 한 에피 택시 레이어 높이 (epitaxial layer height) 를 포함하여 기판 처리의 주요 발전을 통해 더 나은 수율과 향상된 장치 성능을 제공합니다. APPLIED MATERIALS CENTURA E-MAX CT + 는 단일 웨이퍼, 배치, 다중 챔버 시스템 등 유연한 프로세스 기능을 갖춘 다양한 챔버 크기와 구성을 제공합니다. 플라즈마 에치 (plasma etch), 증착 (deposition) 및 에피 택시 (epitaxy) 에 대한 다양한 공정 가스를 제공하며, 정확도가 높은 도량형 및 현장 모니터링 기능이 있습니다. 시스템의 유연한 레시피 정의, 자동화된 워크플로우 제어, 최적화된 웨이퍼 처리 (Wafer Handling) 는 반복적이고 안정적인 경험을 제공합니다. 이 장치는 또한 실시간 데이터 수집 및 분석을 통해 자동 웨이퍼 로드, 언로드, 추적 기능을 제공합니다. 고급 실시간 추적/보고 대시보드는 상세한 프로세스 분석 기능을 제공하며 데이터를 생성하며, 이를 통해 사용자는 추세 파악, 문제 파악, 프로세스 개선 등을 수행할 수 있습니다. 예측 어닐러 (Predictive Annealer) 및 적응 도핑 (Adaptive Doping) 과 같은 고급 프로세스 제어 및 최적화 도구는 향상된 수율 및 품질 결과를 제공합니다. Centura eMax CT + 는 자동화된 웨이퍼 클리닝, 고급 여과기, 효율적인 운영자 유지 관리 스케줄링 등 유지 보수 요건이 낮고 친환경적으로 작동합니다. 유지 보수 자동화 (Maintenance Automation) 기능과 강력한 통신 기능을 갖춘 이 툴은 프로세스 다운타임을 줄이고, 공구의 가용성을 유지하여 운영 처리량 및 정확성을 극대화합니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS Centura eMax CT + 는 처리량과 효율성이 최대인 최고 품질의 재료를 생산할 수 있는, 강력하고 안정적인 반도체 원자로입니다.
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