판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax CT+ #293633129
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax CT + 는 고급 반도체 엔지니어링을 위해 설계된 차세대 플라즈마 에치 원자로입니다. 이 혁신적인 솔루션은 탁월한 프로세스 생산량 및 반복성을 위해 탁월한 성능을 제공하도록 설계되었습니다. eMax CT + 원자로는 검증된 고효율 ICP (Inductively Coupled Plasma) 기술과 혁신적인 검출기 및 작동 기능 향상을 결합한 독보적인 특허 설계를 통해 최강의 프로세스 제어를 지원합니다. 이러한 강력한 기능의 조합으로 인해 eMax CT + 는 안정적이고 효율적인 nanofabrication 툴이 됩니다. eMax CT + 원자로는 고급 웨이퍼 방향 장비를 갖추고 있으며, 이 장비는 에치 챔버 (etch chamber) 의 두 웨이퍼를 정확하게 정렬합니다. 이를 통해 매우 작은 크기의 고해상도 (High-resolution) 패턴을 생산할 수 있습니다. eMax CT + 는 또한 가변 챔버 압력 시스템 (Variable Chamber Pressure System) 을 통합하여 장치의 가스 압력을 조정하여 정확하고 반복 가능한 프로세스 결과를 보장합니다. 원자로는 또한 빠른 응답 쿼츠 크리스탈 모니터를 사용하여 프로세스 모니터링 (process monitoring) 과 최적화 (optimization) 를 실시간으로 가능하게 합니다. 또한 eMax CT + 는 프로세스 매개변수를 최적화하고 프로세스 레시피의 빠르고 반복적인 탐색을 가능하게하기 위해 볼륨 조정이 가능한 고급 가스 전달 머신 (advanced gas delivery machine) 을 갖추고 있습니다. 원자로는 또한 정교한 레시피 관리 소프트웨어를 사용하여 프로세스 매개변수를 동적으로 변경할 수 있습니다. 생산성을 극대화하기 위해 eMax CT + 원자로는 다중 카세트 로딩 기능과 함께 로우 레벨 (low-load-level) 모니터링 및 제어를 제공합니다. 또한 eMax CT + 는 신중하게 최적화된 액체 냉각 시스템과 가변 속도 팬을 통합하여 안정적이고 일관된 프로세스 안정성을 제공하는 고급 냉각 도구를 제공합니다. 강력한 냉각 에셋 (cooling asset) 은 또한 챔버에서 더 효과적이고 정확한 온도 제어를 가능하게하며, 에치 챔버 (etch chamber) 에서 더 정확하고 반복 가능한 프로세스를 가능하게합니다. eMax CT + 원자로는 텅스텐 (Tungsten), 티타늄 (Titanium), 알루미늄 (Aluminum), 티타늄 질화물 (Titanium nitride) 과 같은 다양한 기판 재료를 처리하여 광범위한 공정 응용 프로그램을 가능하게 할 수있는 매우 다양한 도구로 설계되었습니다. 이 모델은 최대 600 nm/min의 최대 공정 속도로 최대 6 인치 웨이퍼 기판을 처리 할 수 있으며, 고급 반도체 엔지니어링을 위해 최고 수준의 성능을 제공합니다.
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