판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9177323

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ID: 9177323
웨이퍼 크기: 8"
Chamber, 8" Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat) System configuration: Chamber B: Heater: AL Clean method: RF Frequency: Dual HF + LF Manometer: Single 100 torr Gas delivery: MFC Type: STEC 4400MC Valves: FUJIKIN 5 Ra Max Filters: Millipore Transducers: MKS with display Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): No Liquid delivery type: EPLIS Injection valve: Yes LFM TEOS: Yes Chamber B Model Size NF3 STEC 4400 300 sccm C2F6 STEC 4400 2 SLM O2 SETC 4400 3 SLM N2 STEC 4400 1 SLM HE STEC 4400 3 SLM LFM LF-410A 1.5 g/m (2) Generators: HF Generator LF Generator Umbilicals: Signal cable length (S/C ~ MF): 25Ft RF Gen coax cable length: 50Ft Pump cable: 50Ft.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ는 박막 증착을 위해 설계된 다용도 원자로입니다. 이 제품은 물리적 증기 증착을 사용하여 고품질 박막 (thin film) 을 입금하여 반도체/광전자 제조 및 기타 응용 분야에 이상적입니다. 원자로는 다양한 모양과 크기의 기판을 수용하기 위해 큰 공정 챔버 (process chamber) 를 특징으로합니다. 또한 멀티 존 (multi-zone) 난방 장비를 사용하여 증착 과정에서 열 에너지를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 원자로는 균일성 (unifority) 을 향상시키기 위해 설계되었으며, 웨이퍼 전체에 걸쳐 시연 된 균일성으로 박막 (thin film) 을 적용 할 수 있습니다. 고성능 설계는 또한 입자 섭취를 최소화하는 데 도움이되며, 최적화된 가스 흐름 시스템 (gas flow system) 을 통해 입자가 공정에서 나올 때 공기 스트림 (air stream) 과 다른 가스 (gase) 에 휩쓸릴 수 있습니다. 센츄라 (Centura) 는 또한 박막 증착 동안 감수성을 최소화하고 정확성을 보장하는 다양한 독특한 기능을 제공합니다. 고정밀 가스 밸브는 가스의 흐름을 정확하게 조절하도록 설계되었으며, 고정밀 프로세스 모니터링 시스템은 프로세스 응답 (process response) 및 성능에 대한 데이터를 제공합니다. 또한, 이 장치에는 고급 진단 (Advanced Diagnostics) 및 고급 프로세스 컨트롤러 (Advanced Process Controller) 기능이 장착되어 있어 운영자가 필요에 따라 프로세스를 수정하여 타겟을 유지할 수 있습니다. 또한 AMAT 센츄라 DxZ (Centura DxZ) 의 설계를 통해 광범위한 화학 반응을 모니터링할 수 있으므로 증착 과정을 밀접하게 지시하고 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 비활성 가스 락커 (inert gas locker) 와 과잉 프로세스 예방을위한 카운트 다운 타이머 (countdown timer) 와 같은 여러 가지 안전 기능이 있습니다. 전반적으로 APPLIED MATERIALS Centura DxZ는 안정적이고 반복 가능한 박막 증착을 제공하는 고급 박막 증착기입니다. 다재다능한 디자인으로 안정성, 안전성, 반복성에 중점을 둔 정확하고 균일 한 코팅이 가능합니다. 고급 기능과 프로세스를 결합하여 센츄라 (Centura) 는 박막 (thin film) 이 정밀하고 높은 수율로 적용되도록 보장합니다.
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