판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9096727

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ID: 9096727
웨이퍼 크기: 8"
SACVD / PECVD System, 8" Process:PE Silane (2) Chambers Top mount RPS Narrowbody loadlocks HP robot OTF Seriplex gas panel, 2 chambers Position A : DxZ PE Silane Position C: DxZ SACVD, Top mount RPS Position E: MSCD Position F: Orienter AX8200A ozone generator rack Neslab HX-300 chiller AMAT 0 heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ 원자로는 물리적 증기 증착 (PVD), 화학 증기 증착 (CVD) 및 에칭 장비를 모두 하나의 기계에 결합한 최첨단 증착 장비입니다. 이 원자로는 완전히 구성 가능한 듀얼 존 챔버 (Dual-Zone Chamber) 설계를 사용하여 고급 장치 생산에 다양한 프로세스 변형을 가능하게합니다. DxZ 는 모든 유형의 샘플 또는 기판 (실리콘 웨이퍼, 쿼츠 슬라이드 등) 을 처리할 수 있으며, 최대 4 인치 직경과 최대 8 x 8 인치 크기의 샘플을 제공합니다. AMAT 센츄라 DxZ (Centura DxZ) 원자로 시스템은 다양한 프로세스 매개변수를 반복하고 조정할 수 있는 고급 소프트웨어를 통해 고정밀 프로세스 제어를 가능하게 합니다. 이 장비는 ALD (Atomic Layer Deposition), 스퍼터링, 어닐링, 에칭 및 플라즈마 보조 에칭과 같은 다양한 증착, 에칭 및 CVD 프로세스를 처리하도록 특별히 설계되었습니다. 예를 들어, 반응 챔버의 온도 정권 (temperate regime) 과 진공 수준 (vacuum level) 을 조정하여 각각의 적용을 최적화 할 수 있습니다. 또한 APPLIED MATERIALS Centura DxZ 원자로는 통합 ETT (Electro-Thermal Throttling) 기술과 완전 자동화 된 기판 처리 장치를 통해 추가 제어를 제공합니다. 이는 리소그래피 (lithography) 와 박막 (thin film) 성장을 위한 완벽한 선택이며, 고급 반도체 장치의 산업 생산 및 연구를위한 이상적인 기반입니다. 또한, Centura DxZ 원자로는 진공 처리 및 통합 실시간 모니터링에서 최신 기술을 활용함으로써 다양한 증착 (deposition) 및 에칭 (etching) 프로세스를 쉽게 전환 할 수 있습니다. 이는 자동 흐름 증착 (auto-flow deposition) 또는 UHV (ultra-high vacuum) 프로세스와 같은 다양한 정교한 프로세스를 적용하는 데 매우 다양합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ 원자로는 고급 산업 및 학술 연구를위한 최고의 기계입니다. 이 제품은 다양한 샘플 크기와 기판 재료와의 높은 프로세스 제어 (High Process Control) 및 고급 호환성을 통합하여 디바이스 제작을 위한 뛰어난 창의성과 혁신을 가능하게 합니다. 개발자, 연구원, 엔지니어가 연구 결과를 극대화하기위한 강력하고 다양한 기계입니다.
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