판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #120819
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판매
ID: 120819
CVD system, 8"
Specifications:
208 Vac, 4 Wires, 3 phase, 250 A, 50/60 Hz
System rating: 90 kVA
Platform type: Centura I Body
Application: Etch
Wafer shape: SNNF
Technology: CVD
RPS: no (available for additional cost)
Chamber type/ location:
Position A: DXZ CHAMBER
Position B: DXZ CHAMBER
Position C: HDP CHAMBER
Position D: Blank
Position E: Blank
Position F: (OA) ORIENTER
System safety equipment:
CE Mark: No
EMO Switch type: Turn to release EMO ETI compliant
EMO Guard ring included
Smoke detector at controller: Yes
Smoke detector at MF No skin: No
Smoke detector at gen rack: Yes
Smoke detector at AC Rack: Yes
Water and smoke detector: Alarm
System labels: English
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH B: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift Assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH F: (OA) orienter:
Orienter: Standard
Gas delivery options:
Component selection: Standard
Valve: VERIFLO
Transducer
Regulator
Filter
Transducer displays
MFC Type: UNIT UFC-1660
Gas panel pallet A
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet B
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet C
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
General mainframe options:
Facilities type: Regulated
Facilities orientation: FACILITIES BOTTOM CONNECTION
Optical character recognition: NO
Weight dispersion plates: NONE
Service lift: NONE
Loadlock/Cassette options
Loadlock type: NARROWBODY
Loadlock platform
Narrow body loadlock extension: NOT APPLICABLE
Loadlock options: NONE
Cassette Type Supported: STANDARD
Loadlock Cover Finish: ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type: KALREZ
Wafer Mapping: ENHANCED(O.T.F)
Wafer Out of Cassette Sensor: NOT AVAILABLE
Cassette Present Sensor: NOT AVAILABLE
Integrated Cassette Sensor: YES
Transfer Chamber Options:
Transfer Ch Manual Lid Hoist: YES
Robot Type: CENTURA HP ROBOT
Robot Blade Option: AL Blade
On the Fly Centerfind: YES
Wafer On Blade Detector: BASIC
Loadlock Vent: BOTTOM VENT
W Throttle Valve and Baratron: NO
HP Thruput Enhancement: NO
Clear Blank Off Plates: NO
Remotes:
Controller Type: 66 INCH COMMON CONTROLLER
Cntrlr Electrical Interface: BOTTOM FEED
Controller Exhaust: TOP EXHAUST
Controller Cover Option: YES
Adaptor for SECS Port 25 Pos: NO
Exhaust Duct: NO
Controller IO Interface: NONE
Three Way Switch Box: NO
AC Rack: Selected Option
GFI: 100mA
AC Rack Types: 66 INCH Pri/Sec AC GEN RACK
Exhaust Collar: NONE
Primary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Secondary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Controller Facility Interface: NO UPS
MCE Secondary Generator Rack: NOT APPLICABLE
Generator rack options :
RF On indicator: YES
RF Gen rack plexiglas cover: NO
Second RF On indicator: NO
Gen rack cooling water: Gen rack water manifold
Gen rack manifold facilities: NOT APPLICABLE
RF Generator flow meter: NOT AVAILABLE
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ는 대규모 어플리케이션을 위해 설계된 초대형 영역 PECVD (플라즈마 강화 화학 증발) 도구입니다. AMAT Centura DxZ의 챔버 크기는 10M x 10M이며, 8.2M x 3.2M의 기판을 처리 할 수 있습니다. 고도로 균일 한 플라즈마 및 균일 한 저압 CVD 프로세스를 만들 수있는 맞춤형 진공-마이크로 프로세서 제어 장비로 구동됩니다. 원자로 (Reactor) 는 고밀도 전원 시스템과 등각 (Conformal) 평판의 이점을 얻어 고급 어플리케이션에 필요한 최고의 균일성과 유연성을 제공합니다. 또한 APPLIED MATERIALS Centura DxZ에는 프로세스 매개변수를 조정하는 독특한 방법을 제공하는 이중 빔 광학 장치가 포함되어 있습니다. 이 기계는 증착실 내부에서 더 직관적 인 조정 방법을 제공합니다. 기판 호환성 측면에서 Centura DxZ는 다양한 기판과의 완벽한 호환성을 제공합니다. 또한 실리콘, 실리카, 쿼츠 등 다양한 표면 재료를 처리 할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ는 최소 너비 0.1 밀리미터, 최대 너비 8.2 미터로 크기가 다른 기판을 처리 할 수 있습니다. 또한, 증착 과정의 핵 생성 단계는 100 ° C ~ 600 ° C (적용에 따라 다름) 의 광범위한 온도에서 발생합니다. 이것은 증착 과정을 더 통제 가능하고 잠재적 인 기판 손상에 덜 취약하게 만듭니다. 재료 호환성 측면에서 AMAT Centura DxZ는 다양한 재료와의 호환성을 제공합니다. 질화물, 보리 드, 질화물, 아미드와 같은 재료와 다수의 유기 금속 전구체를 처리 할 수 있습니다. 또한, 다양한 에칭 가스 및 유기 금속 전구체를 처리 할 수 있습니다. 이를 통해 증착 및 에칭 프로세스를 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 마지막으로 APPLIED MATERIALS Centura DxZ 원자로는 고급 안전 및 환경 기능도 제공합니다. 여기에는 프로세스 안전을 유지하기 위한 고급 안전 냉각수 (Safety Coolant) 툴과 깨끗한 작업 환경을 보장하기 위한 고효율 미립자 여과 자산 (옵션) 이 포함됩니다. 사용자정의 프로세스 제어 모델을 사용하면 배치 매개변수 (deposition parameters) 및 기타 프로세스 변수에 대한 고급 모니터링도 가능합니다. 이러한 기능을 통해 Centura DxZ는 대규모 산업 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.
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