판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9395287

ID: 9395287
웨이퍼 크기: 6"
Poly etcher, 6" Mainframe: Position A, B: DPS Plus poly Position F: Orienter Front panel: Anti-static painted Signal light tower: 3 Color (R, A, G) Type: AC Rack Type: EMO Switch EMO Guard ring Flow sensor chamber: Wall Cathode Turbo pump 4 DPS Type: Wide body loadlock Slit valve: O-Ring type (viton) Wafer mapping: Enhanced (fast) Type: HP and robot Robot blade option Wafer on blade detector: Basic Vent filter: Ceramic Heater Loadlock vent: Top Orienter chamber: Type: Hoop DTCU: ES Voltage distributor Mount ring Lower chamber cover: STD Type: Lip seal EDWARDS TMP Pressure gauge: CM 100 Mt (MKS) Pressure gauge: CM 10 Torr (MKS) ESC HV Module P/N: 0010-30139 BIAS RF Matcher P/N: 0010-00854 Source RF Matcher: Install HE Pressure controller Type: MKS649A (50 SCCM) ATLAS 2012 Source RF Generator ACG-6B RF Generator (BIAS) Throttling Gate Valve (TGV) EDWARDS TMP Etcher pump pipe line With heater Cathode assy type: HE Single supply Upper chamber: Full A-coat Ceramic dome P/N: 0200-39137 Gas panel: MFC Type: AERA FC-D980C Position / Gas / MFC Size Gas 1, 11 / CL2 / 200 SCCM Gas 2, 12 / HBR / 200 SCCM Gas 6, 16 / CF4 / 200 SCCM Gas 7, 17 / CHF3 / 100 SCCM Gas 8, 18 / O2 / 100 SCCM Gas 9, 19 / SF6 / 100 SCCM Gas 10, 20 / AR / 200 SCCM Gas panel facilities: BD Side SLD Box bottom feed AC Chamber TOP side VMEII Gas panel controller VERIFLO Valve MKS 872 Transducer VERIFLO SQ2 Regulator MILIPORE Filter Transducer display per stick CRT Endpoint monitor Rack mount Type: (2) Monochromators Type: V452 SBC Controller Umbilicles: 40 Feet base Mainframe umbilical: 40 ft AC Mainframe umbilical: 40 ft Chiller control cable length: 40 ft Chiller hose length: 50 ft Pump signal cable length: 50 ft RF RACK To MF Cable length: 75 ft Type: SMC H2000 Chiller Cathode (chamber A, B): SMC H2000 Wall (chamber A, B): SMC H2000 Dome (chamber A, B): Facility cooling water Coolant Type: DI and EG (2) Chiller power lines (Tool C/B Chiller) Type: (4) Chiller hoses (50 Ft) Signal I/O EBARA AA40W / AA10 (4) Pump interfaces (4) Pump power lines (Tool C/B Pump) M/F Utility connection: Rear side UPS Lamp CB: 20 A RF Generator CB: (B)15 A / (S)30 A Pump CB: 30 A CRT Monitor Type: DTCU Hoist Power supply: 200 - 208 VAC, 60 Hz, 100 mA.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS는 플라즈마 기반 산업 제조 응용 프로그램을 위한 고성능 통합 장비입니다. 고급 기술 노드, 평면 패널 디스플레이, 컴퓨터 메모리 칩, 마이크로프로세서와 같은 반도체 장치 생산을 위해 설계되었습니다. 이 시스템은 6 구역 로드 록 (loadlock) 과 여러 지능형 엔드 이펙터 (end-effector) 를 갖춘 인라인 드라이브 메커니즘을 갖추고 있으므로 정확하고 반복 가능한 제품을 배치할 수 있습니다. 원자로는 반복 가능하고 반복 가능한 결과와 동시에 최대 25 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 장치에는 실시간 레시피 생성 옵션, 고급 안전 (Advanced Safety) 기능 및 독점 하드웨어가 포함된 자동 레시피 제어 시스템 (Automated Recipe Control Machine) 이 포함되어 있어 처리 매개변수를 사용자 정의할 때 유연성이 거의 없습니다. 이를 통해 새로운 제품 설계 (new product design) 나 프로세스 변경 (process change) 과 같은 변화하는 운영 요구에 쉽게 적응할 수 있습니다. AMAT Centura DPS는 순수한 단결정 실리콘, 금속, 중합체 등 다양한 고급 재료 및 기질을 처리 할 수 있습니다. 원자층, 전자빔, 이온빔 처리 등 다양한 증착 및 에치 (etch) 프로세스를 제공 할 수 있습니다. 이 자산은 또한 고급 분석 및 모니터링 기능을 갖추고 있으며, 증착 및 에치 (etch) 프로세스에서 높은 정확성과 반복성 (repeatability) 을 제공하며, 생산 과정에서 높은 수율과 향상된 품질을 제공합니다. APPLIED MATERIALS Centura DPS (APPLIED MATERIALS Centura DPS) 는 최신 고급 프로세스 단계를 수용하도록 설계되었으며, 자동 정렬, 자동 조정 및 기계 비전과 같은 고급 프로세스 자동화 도구 및 기술과 호환됩니다. 이렇게 하면, 최고 수준의 품질과 정확도를 유지하면서 더 빠르고, 더 효율적인 처리를 수행할 수 있습니다. 이 머신에는 움직이는 부품이 없으며, 24 x 7 가동이 가능하며, 리소스를 최적화하고, 다운타임을 최소한으로 줄일 수 있습니다. Centura DPS 모델은 EU 안전, 보고 및 환경 표준을 준수하므로 산업 환경에 이상적인 선택입니다. 강력한 고성능 프로세싱 이점 외에도 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS 역시 사용이 간편하고 유지 관리가 용이합니다. 이 제품은 사용자 친화적인 인터페이스, 현장 인력 교육, 실시간 문제 해결 지원 등을 통해, 시장에서 가장 안정적이고 경제적인 운영 툴 중 하나입니다.
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