판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9251502

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + 는 고급 처리 응용 프로그램을 위해 AMAT에서 개발 한 반도체 원자로입니다. AMAT Centura DPS + 는 고급 다중 기판 확산 및 임플란트 원자로 (implant reactor) 로, 고속 순차 기판 전송을 통해 단일 공정 도구에서 여러 기판에 도핑 된 필름을 빠르게 배치 및 식각 할 수 있습니다. 따라서 고밀도, 초대형 통합 (ULSI) 구성요소의 대용량 생산에 필요한 장비를 활용할 수 있습니다. 또한 APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + 원자로는 저압 화학 증기 증착 (LPCVD) 및 MOL (Metal Oxide Low Temperature) 프로세스와 같은 고급 물질 증착 기술도 지원합니다. APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reactor는 여러 모듈로 구성된 자동화된 완전 자동 다중 웨이퍼 시스템으로, 각각 특정 처리 단계를 처리하도록 설계되었습니다. 여기에는 Purge/Gass Flow Module, Wafer-Transfer Module, Thermal Chamber, Gas Delivery Module, Cold Wall Module 및 Hot Resource Module이 포함됩니다. CENTURA DPS + 원자로의 퍼지/가스 흐름 모듈 (Purge/Gas Flow Module) 은 특정 요구 사항을 충족시키기 위해 가스 흐름 속도를 자동으로 제어하고 유지함으로써 안정적이고 일관된 가스 흐름을 보장합니다. 이 모듈은 또한 원자로 챔버 (reactor chamber) 와 그 공정 (process) 을 제대로 제거하기 위해 필요한 전자 및 역학을 관리하고 제어합니다. AMAT CENTURA DPS + 원자로의 Wafer-Transfer Module은 여러 기판을 열 챔버로 효율적이고 정확한 전송을 가능하게합니다. 이 모듈은 전체 생산 프로세스를 가속화하기 때문에 AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + 장치의 정확성과 효율성에 매우 중요합니다. Centura DPS + 원자로의 열 챔버 (Thermal Chamber of Centura DPS + Reactor) 는 316L 스테인리스 스틸 (Stainless Steel) 로 구성되며 고급 처리 요구에 대해 최대 1200도의 온도 범위를 제공하도록 설계되었습니다. 제어 가능한 온도를 통해 챔버 (Chamber) 는 처리 프로파일을 다른 기판에 정확하게 적용하여 재료를 배치하거나 에칭 할 때 완벽한 정확성과 정밀도를 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + 원자로의 가스 전달 모듈 (Gas Delivery Module) 을 통해 기계에 필요한 공정 가스를 정확하고 정확하게 제공 할 수 있습니다. 이 모듈은 또한 원자로에서 요구하는 가스 흐름 라우팅, 제어 및 관리를 담당합니다. AMAT Centura DPS + 원자로의 콜드 월 모듈 (Cold Wall Module) 은 Cryo-Cooling 또는 극저온 냉각을 기판에 정확하고 정확하게 적용하여 매우 정확하고 반복 가능한 온도 제어를 가능하게합니다. 마지막으로 APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + 원자로의 핫 리소스 모듈 (Hot Resource Module of APPLIED MATERIALS CENTURA DPS +) 은 전력 및 난방 요소와 같은 필수 자원을 정확하고 반복 가능한 처리를 위해 열 챔버로 관리하고 제어합니다. 또한, 이 모듈을 사용하면 특정 요구 사항에 맞게 온도를 자동으로 조정할 수 있습니다. 이 모듈을 통해 APPLIED MATERIALS Centura DPS + 원자로는 재료를 정확하고 정확하게 배치하고 에치하여 고밀도, 초대형 통합 (ULSI) 구성 요소의 대용량 제작을 제공합니다. APPLIED MATERIALS (APPLIED MATERIALS) 가 제공하는 첨단 기술은 안정적이고 반복 가능한 성능을 보장하여 반도체 업계의 최고 수준의 정밀도를 제공합니다.