판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233287
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ID: 9233287
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Metal etcher, 8"
Mainframe: Centura Phase2
Chamber A & B:
DTCU: EDTCU
Gate & throttle valve: Pentium & throttle valve, VAT
EDWARDS STP-H1303C Turbo pump
Pumping tube: Heated
ENI QMW-25 Generator (Source)
ENI OEM-12B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: Monochromator
Chamber C&D (ASP+):
ASTEX AX-2115 Microwave generator
Tuner: Auto tuner
Chamber E: Fast cooldown
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP Robot
L/L: Narrow tilt-out
Gas panel:
Chamber A & B:
Gas / Size / Model
N2 / 20sccm / 8160
O2 / 500sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CHF3 / 20sccm / 8160
SF6 / 200sccm / 8160
BCL3 / 100sccm / 8160
CL2 / 200sccm / 8161
Chamber C & D
Gas / Size / Model
N2 / 500sccm / 8160
O2 / 5000sccm / 8160
N2 / 1000sccm / 8160
VDS
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
EPD Monitor rack
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + 는 차세대 OLED 디스플레이 및 기타 마이크로 일렉트로닉스 어플리케이션의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급 플라즈마 강화 화학 증기 증착 (PECVD) 장비입니다. AMAT Centura DPS + 는 기본 셀의 증착을 위해 설계된 델타 챔버 (Delta chamber), 복합 반도체 증착을 위해 설계된 시그마 챔버 (sigma chamber) 및 스트라이프 모양의 표적으로 정류 필름을 증착하도록 설계된 스트라이프 챔버 (Stripe chamber) 를 제공합니다. 이를 통해 초박막 (ultra-thin film) 에서 2 밀리미터 이상의 필름까지 광범위한 증착 기능이 가능합니다. 이 장치에는 초정밀 제어 시스템을 사용한 온도 조절, 미크론 수준 균일성 및 반복 가능성, 실시간 자동 로드 잠금, 가변 주파수 RF 스퍼터 전원 공급 장치, 사용자 정의 가능한 종점 감지 등 다양한 프로세스 제어 기능과 같은 처리 속도와 수율을 향상시키는 많은 기능이 제공됩니다.. 또한, 시스템은 반자동 (semi-automatically) 방식으로 작동하며 다양한 모양과 크기로 웨이퍼를 처리하도록 프로그래밍할 수 있습니다. 저온 처리를 특징으로하며, 플라즈마 활성화 가스 방전은 증착율, 균일성 및 품질을 향상시킵니다. 이 장치에 사용 된 고순도 공정 가스는 뛰어난 필름 균일성과 프로세스 안정성을 제공합니다. APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + 는 또한 완벽하게 조절 가능한 전력 및 압력 수준을 갖춘 뛰어난 플라즈마 제어를 제공하여, 프로세스 매개변수를 세밀하게 조정하여 최적의 재료 성능을 제공합니다. 특수한 멀티 챔버 클러스터링 아키텍처를 통해 처리량이 많은 클러스터 처리를 수행할 수 있습니다. 또한, 고정밀 통합 정렬 설비 및 자동 웨이퍼 로딩 플랫폼은 수동 노동을 최소화합니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + 는 차세대 OLED 디스플레이 증착 및 기타 마이크로 일렉트로닉스 요구를 위한 고급 처리 기능을 제공합니다. 이 기계는 다양한 기능을 통해 증착과 에칭 (etching) 요구 사항을 충족하는 효율적이고 안정적인 플랫폼을 제공합니다.
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