판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS Poly #9226614

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS Poly는 다결정 실리콘 및 기타 재료의 증착을 위해 개발 된 건식, 수직 열 화학 증발 원자로입니다. Centura DPS ™ Poly 플랫폼은 수직/수평 처리 기능과 피스톤 중심의 회전 시간 제어를 결합하여 수직 열 증착 공정의 Nanosecond Control ™ 을 제공합니다. 나노 초 컨트롤 (Nanosecond Control) ™ 장비는 1 ° C 범위 내에서 기판 온도를 제어 할 수 있으므로 고품질 다결정 실리콘 필름의 증착을 보장합니다. 또한 Centura DPS ™ Poly 플랫폼의 수직 프로세스 형상은 수동 청소 및 유지 보수에 대한 뛰어난 액세스를 제공합니다. 다재다능한 Centura DPS ™ Poly 플랫폼은 적은 설치 공간과 낮은 유틸리티 소비를 특징으로하므로 반도체 제작 설비에 적합합니다. 또한 Centura DPS (TM) Poly 플랫폼은 고급 프로세스 자동화 시스템으로 작동하여 자동화된 공구 흐름에 통합할 수 있습니다. 이 플랫폼은 고유 한 이중 소스 유닛 (dual source unit) 을 사용하여 기판 및 웨이퍼 크기에 걸쳐 반응물 가스 (reactant gase) 의 분포와 우수한 균일 성을 제공하여 높은 기판 처리율로 고품질 필름을 제공합니다. 센츄라 DPS ™ 폴리 (Centura DPS ™ Poly) 는 모든 구성 요소와 시스템이 제대로 작동하고 업계 표준에 부합하는지 철저히 테스트합니다. 각 기계는 최적의 처리 능력을 보장하기 위해 엄격한 보정 및 검증 프로세스를 거칩니다. 이 도구에는 INOVA Module (TM) 이 장착되어 있어, 추가 제어 및 모니터링 기능을 제공하여 모듈 교체 및 운영 가동 시간 향상을 필요로 합니다. 결론적으로 AMAT Centura DPS ™ Poly는 고품질 다결정 필름의 증착을위한 훌륭한 선택입니다. 수직 프로세스 형상 및 Nanosecond Control (tm) 자산은 뛰어난 프로세스 안정성과 클리닝 및 유지 보수에 대한 탁월한 액세스를 가능하게 합니다. 이 모델은 또한 적은 설치 공간과 낮은 유틸리티 소비를 특징으로하며, 공간이 제한된 반도체 제작 설비 (FA) 를 선택할 수 있습니다. 이중 소스 장비는 반응성 가스 분배를 보장하며, 필름 균일성 및 처리율을 향상시킵니다.