판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390588

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II 원자로는 반도체 제조를 위해 설계된 다중 구역 고속 열 원자로 시스템입니다. 증착, 도프 활성화, 박막 산화, 에칭까지 다양한 프로세스에 사용됩니다. DPS II는 고온에서 작동하여 현대 반도체 제조의 필수 단계 인 빠른 열 처리 (RTP) 를 가능하게합니다. 기존 용광로 시스템보다 훨씬 높은 최대 1150 ° C (초) 의 온도에 도달 할 수 있습니다. 결과적으로, 나노 미터 (nanometer) 수준에서 프로세스 조건을 철저히 제어하여 혁신적인 고성능 장치를 개발할 수 있습니다. DPS II의 멀티 존 (multi-zone) 구성에는 3 개의 독립적 인 처리 구역 (통합 저항 가열 서셉터, 적외선 가열 램프 및 산화 챔버) 이 포함됩니다. 이 설계를 통해 공정 조건의 제어는 물론, 더 작은 발-인쇄 (foot-print) 및 저비용 (low-cost) 작동을 제어할 수 있습니다. 또한 여러 독립 온도 영역 (independent temperature zone) 을 사용하여 지정된 프로세스에 대한 최적의 열 프로파일을 정의할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 변화하는 프로세스 조건에 따라 온도 및 압력 프로파일을 동적으로 조정하여 균일 한 처리를 보장하는 독점 기술인 APC (Adaptive Process Control) 를 갖추고 있습니다. 이것은 비소 분리, 입자 오염 및 미세 구조의 양자화와 같은 빠른 열 처리 (RTP) 의 바람직하지 않은 부작용을 최소화합니다. 또한 DPS II 는 고급 광 피드백 (optical and spectrometric feedback) 시스템을 사용하여 열 프로파일을 자동화하고 프로세스 매개변수를 실시간으로 최적화합니다. 이를 통해 사용자는 최적의 프로세스 (Optimal Process) 를 신속하게 정의할 수 있으며, 높은 수준의 수율과 제품 품질을 보장할 수 있습니다. 마지막으로, DPS II는 복잡한 프로세스 통합 및 자동화에 적합합니다. 표준 및 독점 소프트웨어 프로토콜과 네트워크 I/O, EtherCAT 등 다양한 인터페이스 옵션을 활용합니다. 이를 통해 프로세스 변수를 실시간으로 모니터링하고, 외부 시스템과의 통합을 통해, 원자로 가동을 대폭 간소화하고, 운영 효율을 극대화할 수 있습니다.