판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9377212

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II는 반도체, 변형 엔지니어링, 나노 기술, 광학 및 에너지 처리 내 많은 응용 프로그램의 요구를 충족하도록 설계된 고급 공정 가능 원자로입니다. 원자로는 저온에서 고온, 압력, 그리고 수많은 물질과 화학물질을 가진 다양한 복잡한 대기 (atmosphere) 에서 작동 할 수 있습니다. 다중 모드 프로세싱 (multi-mode processing) 과 고급 자동화 (advanced automation) 를 결합하여 원자로는 정밀성과 반복성을 갖춘 복잡한 처리 작업을 수행 할 수 있습니다. 원자로에는 공정 매개변수 (process parameter) 를 정확하게 제어할 수있는 제어 장비가 있어 다양한 공정 커스터마이징 (process customization) 및 최적화 (optimization) 가 가능합니다. 제어 시스템에는 적절한 웨이퍼 포지셔닝을 보장하는 자동 웨이퍼 배치 (Automatic Wafer Placement) 와 같은 기능이 있으며, 반복 가능한 증착 응용 프로그램에 대해 저장 및 리콜 할 수있는 최대 4 개의 특정 증착 레시피를 설정할 수 있습니다. 원자로 작동은 하드웨어 (하드웨어), 온도 (온도) 및 기타 중요한 매개변수에 대한 하드웨어 모니터링을 통해 실시간으로 모니터링됩니다. 원자로 챔버는 온도 조절이 가능하며, 벌크 웨이퍼, 기판, 카세트 로딩 등 다양한 로딩 하드웨어를 지원할 수 있습니다. 챔버 설계를 통해 빠른 주기 시간 (rapid cycle time) 과 균일 한 온도 분포를 통해 균일 한 처리 결과를 만들 수 있습니다. 2 단계 직접 가열 및 간접 냉각은 오염을 줄이고 프로세스 재생성을 향상시킵니다. 챔버 (Chamber) 는 또한 챔버 (Chamber) 가 압력을 잃거나 압력이 너무 낮으면 작동을 중단하는 설계 된 안전 기계를 갖추고 있습니다. AMAT Centura DPS II에는 필름 두께를 모니터링하는 불투명도 모니터 (opacity monitor) 또는 화학 반응을위한 오존을 생성하는 폼 오존 생성기 (form ozone generator) 와 같은 추가 하드웨어도 옵션으로 제공됩니다. 원자로에는 증착 과정에서 가스를 비활성 (inert gas) 으로 도입 할 수있는 옵션 포트가 있습니다. 원자로는 공정 파라미터 (Process Parameter) 와 응용 레시피 (Application Recipe) 의 유연성 (Variability) 을 허용하면서 높은 진공에서 작동하도록 설계되어 가공을위한 최적의 조건을 제공합니다. APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II는 다양한 온도 및 가스에서 정확하고 반복 가능한 처리가 가능합니다. 반도체, 변형 엔지니어링, 나노 기술, 광학 및 에너지 처리 응용 프로그램의 표준을 초과하는 고품질 결과를 보장합니다. 이 원자로 (Reactor) 는 최소한의 유지 보수 및 유지 보수를 통해 균일하고 효율적인 결과를 제공할 수 있는 고급 자동화/제어 기능으로 사용 편의성과 안정성을 위해 설계되었습니다.