판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3 #9195071

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3는 반도체 산업에서 사용하도록 설계된 고도의 플라즈마 에칭 원자로입니다. 이 원자로는 500nm 이하의 고가로 비율 (High-Aspect Ratio) 기능과 관련된 프로세스에 특히 적합하므로 가장 현대적인 칩 디자인의 요구에 이상적입니다. 이 원자로는 센츄라 DPS II (Centura DPS II) 시리즈의 일부이며 프로세스 최적화 (Process Optimization) 에서 발전하는 요구 사항에 따라 다양한 애플리케이션을 충족 할 수있는 모듈 식 설계를 갖추고 있습니다. 원자로에는 WF 적재 가능한 용기가 포함되어 있습니다. 즉, 비표준 웨이퍼 크기나 쿼츠 방향과 같은 다양한 옵션을 지원할 수 있습니다. 이 원자로는 고급 AMAT 엔두라 5500 (Endura 5500) 전원 공급 시스템으로 구동되며, 정확한 제어와 높은 균일성을 갖춘 탁월한 성능을 제공합니다. 이를 통해 고객은 높은 에치율 (etch rate) 과 우수한 반복 (repeatability of result) 을 각 배치를 통해 달성할 수 있습니다. 전력 공급 시스템 (Power Delivery System) 은 또한 사용자가 특정한 요구에 맞게 조정할 수 있는 다중 주파수 (Multi-Frequency) 유연성을 갖추고 있습니다. 원자로는 실리콘 기반 게이트 호환성 (gate compatibility) 을 가지고 있으며 300mm 표준을 준수하므로 다양한 칩 디자인에 적합합니다. 또한 통합 펌프 (Pump), 가스 분석기 시스템 (Gas Analyzer System) 과 같은 고급 기능을 통해 성능 및 운영 효율성을 극대화하여 프로세스 윈도우를 최적화하여 최고 수율을 달성할 수 있습니다. 원자로는 기판 척 세트, 소스 램프 (옵션) 및 플라즈마 모니터링 시스템 (예: 기판 척 세트) 과 같은 여러 옵션과 기능을 사용할 수 있습니다. 또한 안전 장치 (Safety Mechanism) 가 내장되어 있어 항상 최적의 안전 및 생산성을 유지할 수 있습니다. AMAT Centura DPS II AE Poly G3는 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급적이고 안정적인 원자로입니다. 탁월한 성능과 유연성을 제공하며, 특정 애플리케이션 요구 사항을 충족하는 모듈식 (modular) 설계를 제공합니다. 500nm 이하의 기능에서 300mm 칩에 이르는 디자인에 적합합니다. 이것은 모든 유형의 반도체 응용 분야에 적합한 선택입니다.