판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP #9314662
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ID: 9314662
웨이퍼 크기: 12"
Etcher, 12"
Poly etch
(3) DPS II Chambers
Axiom chamber
RF Gen rack
AC Rack
Missing parts:
KAWASAKI ATM Robot EFEM
Buffer chamber ( VHP Robot)
Turbo pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP는 최적의 속도와 정확성을 위해 설계된 고급형 웨이퍼 처리 원자로입니다. 멀티 존 챔버 (multi-zone chamber) 설계를 활용하여 재료를 균일 하게 가열하고 증착하여 일관된 결과를 제공합니다. 이 공정 챔버 (Process Chamber) 에는 독립 온도 제어 기능을 갖춘 최대 6 개의 개별 원 냉각 솔루션을위한 약 3 개의 수평 영역이있는 통합 테이블이 있습니다. 이 표에서는 동시 프로세스를 지원하므로 처리량 (throughput) 및 주기 (cycle) 시간을 단축할 수 있습니다. 원자로 챔버는 진공 매니 폴드로 둘러싸여 있습니다. 매니 폴드 (Manifold) 의 디자인은 공정이 진공 (vacuum) 에서 수행되므로 웨이퍼의 고른 증착과 에칭이 가능합니다. 약실 에는 "가스 '주입 장비 가 추가 되어" 가스' 를 정확 한 양 으로 공급 하고 측정 된 공정 온도 에 따른 비율 을 제공 한다. AMAT Centura DPS II AE Mesa HP에는 AMAT Control System이 장착되어 있어 프로세스 엔지니어가 다른 설치를위한 개별 레시피를 만들 수 있습니다. 또한 프로세스 조건에 대한 실시간 모니터링을 제공하며 프로세스 최적화를 지원합니다. 또한, 이 장치에는 필수 안전 표준을 준수하기 위해 안전 (safety) 기능이 장착되어 있습니다. 이 원자로 는 또한 높은 정확도 를 제공 하며, 퇴적물 과 식각 물질 의 두께 를 균일 하게 유지 한다. 또한 우수한 반복성 (repeativility) 과 높은 수준의 프로세스 제어를 제공하여 웨이퍼 (wafer) 생산 공정의 수율을 향상시킵니다. 결론적으로 APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP는 균일 한 난방, 증착 및 에칭으로 고성능 웨이퍼 처리를 제공하도록 설계되었습니다. 이 원자로에는 진공 매니 폴드 (Manifold), 가스 분사 기계 (Gas Injection Machine) 및 제어 도구 (Control Tool) 가 장착되어 있어 사용자에게 균일하고 반복 가능한 프로세스를 제공하는 강력한 도구가 제공됩니다. 또한, 이 원자로는 최대 공정 안전, 정확성 및 수확량을 위해 설계되었습니다.
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