판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura (DPN+) #9174570

AMAT Centura (DPN +) 는 단일 웨이퍼 및 배치 처리 모두에서 고성능 반응성 이온 에칭 및 박막 증착을 제공하도록 설계된 원자로입니다. 원자로 (Reactor) 는 III-V 디바이스 제작과 같은 민감한 고사양 재료의 제조 및 증착 과정에서 문제를 해결할 수있는 공정 (process) 기능을 지원하도록 설계되었습니다. 원자로에는 고급 컨트롤러 (Advanced Controller) 가 있어 광역 균일성, 고플라즈마 밀도, 에칭을 위한 고에너지 등 새로운 고급 기능에 액세스 할 수 있습니다. 표준 멀티 채널 소스 (multi-channel source) 를 사용하면 장비의 측면 균일성이 더욱 향상됩니다. APPLIED MATERIALS Centura (APPLIED MATERIALS Centura, DPN +) 원자로는 모듈식 설계로 구성되어 특정 프로세스 요구에 맞게 시스템을 사용자 정의할 수 있습니다. 원자로의 제어 장치 (Control Unit) 는 전체 공구 성능을 최적으로 유지하기 위해 기계의 성능을 추적하도록 설계되었습니다. 원자로는 또한 고급 진단 (Advanced Diagnostics) 을 사용하여 공정 엔지니어가 공정 매개변수 (Process Parameter) 를 모니터링하여 식각 속도 (Etch Rate) 및 기타 프로세스 요구 사항을 충족하도록 합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura (DPN +) 는 전기 정적 척 압력 (ESP) 및 온도 용량을 매우 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 이 장치는 프로세스 매개변수를 조정하여 에치 레이트 (etch rate) 를 최적화할 수 있는 여러 펄스 (pulse) 옵션을 제공합니다. 펄스 기술은 단일 펄스 (single pulse) 및 다중 펄스 (multi-pulse) 와 같은 여러 펄스 옵션을 지원하여 반응성 이온 에치를 실행할 때 더 높은 에치 레이트와 향상된 프로세스 제어를 가능하게합니다. 또한, AMAT Centura (DPN +) 에는 에치 챔버 (etch chamber) 에 대한 온도 및 압력 제어, 프로세스 매개 변수 모니터링 및 조정이 가능한 고급 컨트롤러가 장착되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 설정하고 etch 속도 및 기타 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 특허받은 이중 마그네트론은 또한 기존의 RF 에치 도구와 비교할 때 이온 사용률 향상, 오염 감소 효과를 제공합니다. 또한 APPLIED MATERIALS Centura (APPLIED MATERIALS Centura, DPN +) 는 사용자가 구성 가능한 모델을 만들 수 있는 용량을 늘리기 위해 추가 컴포넌트를 추가하여 원자로 자산을 확장할 수 있는 유연성을 제공합니다. 다양한 다용도 피팅 (multipurpose fitting) 과 추가 공구를 통해 사용자는 원자로 (reactor) 를 기존 생산 라인에 통합할 수 있습니다. 전반적으로, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura (DPN +) 원자로는 비용 효율적이고 견고한 솔루션으로서, 새로운 자재 및 장치의 개발 및 제작에 필요한 엄격한 요구 사항을 충족하면서 프로세스 성능을 정확하게 보장합니다. 고급 컨트롤, 고성능 기능, 다양한 기능을 갖춘 이 장치는 에치 (etch) 프로세스의 정확한 제어 및 정확성을 보장하며 프로세스 안정성, 재현성, 반복성을 보장합니다.