판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9293599

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor는 프로세스 환경을 매우 정확하게 제어하도록 설계된 혁신적인 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 저압 및 저온 에칭 및 증착 방법을 사용하여 프로토 타입 반도체 필름 (일반적으로 복잡한 다층 구조 및 나노 스케일 장치) 을 증착합니다. Ultima X는 더 높은 처리량과 더 큰 수율을 위해 뛰어난 반응성과 균일성을 가지고 있습니다. AP Ultima X Reactor는 정확한 프로세스 제어를 유지하면서 최대 5 미크론의 필름을 생성 할 수 있습니다. 이 시스템의 지능형 하드웨어 및 소프트웨어 설계는 온도, 압력, 가스 흐름 (Gas Flow) 을 화학적 전구체 및 반응 구성 요소와 함께 최적화하여 이상적인 필름 구조를 생성하도록 설계되었습니다. 이 고급 원자로 장치에는 4 구역 증착기가 포함 된 대형 단일 챔버 디자인이 있습니다. 각 증착 구역에서 최대 4 개의 서로 다른 전구체를 동시에 사용할 수 있습니다. 울티마 X (Ultima X) 원자로에는 증착의 프로세스 제어를 위한 로드 락 (load-lock) 도구뿐만 아니라 기계식 셔터 및 관성 기술이 포함되어 있습니다. 고급 제어 자산 (Advanced control asset) 은 실시간 실험과 조그 (jog) 를 제공하며 전체 프로세스에 대한 종합적인 모니터링을 제공합니다. 또한 필름 증착 두께와 균일성의 고정밀 측정을위한 스캐닝 전자 현미경 (scanning electron microscope) 이 장착되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 가스 흐름, 온도, 압력 등 중요한 프로세스 매개변수를 동시에 모니터링할 수 있습니다. Ultima X의 연소 불꽃은 가우스 분산 및 기타 등방성 불꽃 특성을 지원할 수 있습니다. 원자로 (reactor) 는 또한 챔버 안팎으로 로딩하기위한 로드 잠금 (load lock) 및 통합 질량 흐름 컨트롤러 (integrated mass flow controller) 를 갖추고 있습니다. Ultima X의 듀얼 챔버 (dual-chamber) 모델은 프로세스 시간을 줄이고 전반적인 효율성을 높이기 위해 2 개의 필름을 동시에 증착 할 수 있습니다. 또한 유해 물질의 과다 노출으로부터 보호하기 위해 고급 안전 모듈을 제공합니다. 결론적으로 AMAT Centura AP Ultima X Reactor는 매우 다재다능하고 효율적인 화학 증기 증착 장비입니다. 고급 온도, 압력, 가스 흐름 제어 (gas flow control) 기능을 통해 정교한 필름과 나노 스케일 구조를 제공하며 높은 수준의 안전을 유지합니다. 이 원자로는 높은 정밀도, 품질 외에도 다양한 기능과 장점을 제공하므로 대용량 (High Volume), 고품질 (High Quality) 생산을 위한 매력적인 옵션입니다.