판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9253668
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판매
ID: 9253668
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2013
HDP CVD System, 12"
Chamber A, B & C:
Chamber type: Ultima X HDP CVD
Gas configuration (sccm): MFC full scale
Gas / sccm
O2 / 1000
NF3 / 100
HE / 600
SiH4 / 300
H2 / 1000
AR / 1000
SiH4 / 50
HE / 400
AR / 100
NF3 / 3000
AR / 3000
RF Source: 1.8 - 2.17 MHz, 10000W (Max)
RF Bias: 13.56 MHz, 9500W (Max)
RF RPS: 400 kHz, 6000W (Max)
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X는 고급 집적 회로 장치의 제조, 증착, 에칭 및 엔지니어링을 위해 설계된 플래튼 형 원자로입니다. 프로세스 챔버 위에 매달린 ULTE (Ultra Low Thermal Expansion) 쿼츠 플레이트와 조정 가능한 온도 제어 범위가 -60 ° C ~ + 150 ° C인 하위 대기 압력 챔버가 특징입니다. 열 관리 기능은 온도 균일성 (temperity uniformity) 및 공정 반복 (process repeatability) 기능을 제공하며, 이는 강력한 생산 환경에 필수적입니다. Ultima X 원자로는 스퍼터링, 플라즈마 에칭, 탄소 증발, 금속 유기 화학 증발 (MOCVD), 원자층 증착 (ALD) 및 기타 다양한 증착 기술을 포함한 여러 공정 기술을 사용합니다. 이를 통해 실리콘 온 인슐레이터 (TRI/SOI) 및 FinFET/III-V 장치와 같은 고도의 반도체 기반 기술의 제작을 수용 할 수 있습니다. 또한, 여러 툴셋에 걸쳐 통합 플랫폼을 제공하기 위해 자동화된 툴 호환성 (Tool Compatibility) 모듈이 장착되어 있습니다. 울티마 X (Ultima X) 원자로는 높은 공정 처리량 및 낮은 결함 밀도를 생성하는 능력으로 인해 널리 사용됩니다. 여러 프로세스 셀에는 자동화 된 연동 플라즈마 격리 쉴드 (interlocked plasma containment shield) 가 장착되어 있으며, 이로 인해 플라즈마가 이웃 챔버에 들어가지 못하게되어 오염 제어가 뛰어납니다. 챔버 내에 부품을 고정하는 재사용 가능한 케이지는 정확한 배치 로딩 (batch loading) 및 언로딩 (unloading) 을 위해 정밀 동작 제어를 제공하여 신속한 웨이퍼 처리 및 서보 모터 기술을 통해 안정적인 처리를 보장합니다. 울티마 엑스 (Ultima X) 는 또한 컴퓨터 제어 안전 시스템과 스마트 에너지 관리 (Smart Energy Management) 를 갖추고 있어 에너지 비용을 최소화하면서 자원 활용도를 극대화할 수 있습니다. 울티마 엑스 (Ultima X) 는 멀티 뷰 증착 및 드라이 에칭 프로세스 흐름에 대한 고급 통합 계층을 제공하는 업계 최고의 제품입니다. 특허를 획득한 자동화 및 제어 아키텍처 (automation and control architecture) 는 장치 생산에 탁월한 프로세스 반복성, 정밀성 및 수율을 제공합니다. 또한, 열 설계 및 초소음 (ultra quiet) 운영 체제를 통해 대용량 제조 어플리케이션에 적합합니다. 전반적으로 AMAT Centura AP Ultima X는 효율적이고, 안정적이며, 높은 생산성 원자로, 반도체 산업에 중요한 발전을 지속적으로 제공합니다.
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