판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9172654
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ID: 9172654
HDP CVD System, 12"
Factory interface (FI) version: 5.3
Number of load-ports: 3EA
FI Robot type: KAWASKI with edge grip & Pre-aligner (single axis)
Mainframe type: 300mm CenturaAP mainframe
Vacuum robot type: VHP with 2 ceramic blades
LLKA: SWLL
LLKB: SWLL
Chamber configuration:
A: Ultima X HDP-CVD
B: Ultima X HDP-CVD
C: Blank
D: Ultima X HDP-CVD
Process chambers:
Ch#A/B/D : Ultima X HDP-CVD
Process: USG STI & IMD, PSVN
Gas ring & Nozzle type: 36 Ports & 1.76” ALN Nozzles
Cathode type: 300mm Dual HE ESC
RPS Type: MKS Astron RPS
Turbo pump type:
STP-XH3203P (CH A/B)
TMP-H3603LMC-A1(CH D)
Gate valve type: NorCal
RF Generator:
Top/Side: MKS ENI Spectrum (2 MHz, 11 kW)
BIAS: MKS ENI Spectrum (13.56 MHz, 11 kW)
RF Match box:
Top/Side: Local match
Bias: AE AZX72 Auto tune match Box
IHC Type: 20/20 Torr dual IHC
WTM Type: Wafer temperature monitor 4 channels
Gas pallet configuration:
(12) Stick gas pallets (CH A/B)
N2 Purge
O2: 400sccm
NF3: 400sccm
He: 600sccm
SIH4: 400sccm
H2: 1000sccm
AR:1000sccm
SiH4: 50sccm
He: 600sccm
NF3: 400sccm
NF3: 3000sccm
Ar: 3000sccm
N2 Purge
Stick gas pallets (CH D)
N2 Purge
O2
NF3
H2 1000sccm
SiH4
He 600sccm
Ar 50sccm
H2 1,000sccm
SiH4
He 600sccm
NF3
NF3
Ar 3000sccm
N2 Purge
Gas panel feed: Bottom
Exhaust: Bottom
MFCs: Unit 8565C multiflow
Valve type: Veriflo
Filter type: Millipore
Controller type: DeviceNet
Transfer pump: ALCATEL A100L iPUP (1EA)
Primary AC rack: 2EA
Facilities UPS interface
Power requirements:
200/208 VAC, 3-Phase, 400 A, 4-Wire, Frequency 50/60 Hz
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor는 유전체 및 금속 필름의 증착에 사용되는 반도체 장치입니다. 이 고성능 장비 (High Performance Equipment) 는 가장 최신의 처리량과 정밀도를 제공하여 엔지니어가 다양한 재료에서 복잡한 구조물을 빠르고 정확하게 생산할 수 있게 해 줍니다. AMAT Centura AP Ultima X에는 강력한 PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) 기술이 장착되어 있어 유전체 및 금속 필름을 고온에서 빠르게 배치 할 수 있습니다. 직경이 최대 300mm 인 대형 기판 크기를 매우 정확하고 정확하게 처리 할 수 있습니다. 저압, 중간 주파수, 고출력, 낮은 부하의 조합으로 증착률이 크게 증가합니다. 이 시스템은 정교한 컨트롤 및 모니터링 장치 (monitoring unit) 를 갖추고 있어, 사용자가 필름의 증착을 면밀히 모니터링 할 수 있습니다. 기계는 기판에 대한 적합성 수준을 감지하고, 다른 수준의 스퍼터링 (sputtering) 사이를 전환하는 기능을 통해, 높은 적합성과 균일성을 가진 필름의 증착을 허용합니다. 이 도구는 대용량 가스 배송 자산 (gas delivery asset) 을 활용하여 빠른 가스 배달을 통해 처리량을 높입니다. 또한 시작 시간이 빨라져 운영자가 신속하게 프로세스를 시작할 수 있습니다. 쉽고 프로그래밍 가능한 3 존 (zone) 공정 챔버를 통해 엔지니어는 이상적인 균일성과 적합성을 갖춘 견고하고 신뢰할 수있는 영화를 제작할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X는 탁월한 정확성과 신뢰성을 제공하여 정확하고 일관된 결과를 제공합니다. 자동 교정 (Automatic Calibration) 모델을 사용하여 엔지니어는 생성된 결과가 항상 원하는 요구 사항에 부합하는지 확인할 수 있습니다. 또한, 장비의 모듈식 설계로 유지 보수 및 업그레이드가 용이합니다. 전반적으로 Centura AP Ultima X Reactor는 복잡한 구조를 빠르고 정확하게 만드는 데 사용할 수있는 고급 장치입니다. 이 장치는 다양한 기능을 통해 엔지니어들이 유전체 (dielectric) 와 금속 필름 (metal film) 을 매우 정확하고 일관되게 배치할 수 있습니다.
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