판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP #293592988

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP Reactor는 기판에서 박막 재료의 EFG (edge-defined film-fed growth) 를 촉진하기 위해 설계된 첨단 화학 증기 증착 (CVD) 도구입니다. 소용량, 고성능 광학, 반도체 및 MEMS 장치 계층 제조에 이상적입니다. 고효율적이고 비용 효율적인 AMAT Centura ACP Reactor (센츄라 ACP 원자로) 는 대규모와 소규모의 분야에서 뛰어난 필름 균일성을 제공하며, 업계 전반에 걸쳐 칩 제조에 혁명을 일으킬 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura ACP Reactor는 빠른 웨이퍼 스캔 속도에서도 필름 비 균일성을 최소화하면서 프로세스 제어를 극대화하는 새로운 고효율 직접 플라즈마 소스를 특징으로합니다. 이것은 가스 흐름이 낮아 공간적으로 지역화 된 필름 성장과 균일 한 증착 프로파일에 대한 증착율 제어 개선 (imposition rate control) 을 가능하게하기 때문입니다. 이 복잡한 기술 통합은 기존 장비보다 정확하고 경제적인 EFG 기능을 제공합니다. Centura ACP에는 응답 가능한 I-S-E (In-Situ Etch) 기능이 추가되어 복잡한 프로세스 구성 요소 및 박막 레이어의 현장 제작이 가능합니다. 하나의 시스템에서 매우 효율적인 에칭 (etching), 증착 (deposition) 및 표면 수정 기술을 제공하여 비용이 많이 들고 시간이 많이 드는 에치 다운이 필요하지 않습니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP에는 고급 가스 병 장착 장치가 장착되어 있어 여러 시약에 안전하고 쉽게 액세스 할 수 있습니다. AMAT Centura ACP Reactor의 다른 혁신적인 기능으로는 새로운 특허 기판 마운트가 있으며, 최적의 열 안정성과 최소 열 손실을 제공합니다. 이는 열 구배를 최소화하고 복잡한 열 관리 시스템 없이 필름 성장시 균일성을 보장합니다. 또한, 기계는 특허를받은 실내 및 실외 (IOCC) 믹싱 챔버 및 가스 혼합 기술을 갖추고 있습니다. 이를 통해 필름 성장 지대에서 정밀한 가스 혼합 (gas mixing) 및 전달 (delivery) 을 가능하게하며, 다양한 가스 농도와 필름 성장률 제어가 가능합니다. APPLIED MATERIALS Centura ACP Reactor는 CVD 기술의 인상적인 발전입니다. 다양한 혁신적인 기능을 제공함으로써 대규모/소규모 분야에서 효율적이고 안정적인 균일성 (unifority) 과 성능 (performance) 을 제공합니다. 반도체, MEMS, 광학 박막 장치 제조의 응용프로그램에 적합하며, 탁월한 수준의 제어를 제공하면서 보다 빠르고, 비용 효율적인 제작이 가능합니다. Centura ACP Reactor는 고급 EFG 기술을 통해 칩 제조에 혁명을 일으킨 업계의 게임 체인저로 설정되었습니다.