판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9256948

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 고급 플라즈마 강화 증기 공정을 위해 설계된 플라즈마 기반 원자로입니다. 원자로는 다양한 기판에서 박막 층 증착에 사용된다. 원자로에는 정밀 소스 가스 전달 시스템 (precision source gas delivery system) 이 장착되어 있어 증착 과정에서 비교할 수없는 수준의 제어 및 정밀도를 제공 할 수 있습니다. 소스 가스 (source gas) 는 공정 챔버 (process chamber) 에 균일 한 플라즈마 환경을 만드는 데 사용되므로 기판 재료의 강착 속도, 온도 및 균일성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. AMAT Centura 5200 은 자동 챔버 (automated chamber) 형상 설계를 통해 클리닝 및 유지 보수에 필요한 시간을 단축하고 수동 정렬을 최소화합니다. 또한 통합 플라즈마 발전기 (Integrated Plasma Generator) 가 장착되어 기판 및 기타 부품을 정밀 난방 및 열 후 처리 구역 (Post-Heat-Treatment Zone) 을 통해 밀어넣기 전에 증착 과정에서 사용되는 모든 재료를 올바르게 처리 및 전열합니다. 원자로 (Reactor) 에는 고급 피드백 제어 시스템 (feedback control system) 이 장착되어 있어, 사용자가 진행 중인 프로세스 매개변수를 모니터링하고 필요에 따라 프로세스의 정밀도를 조정할 수 있습니다. 또한 피드백 (feedback) 을 사용하면 프로세스별 매개변수를 설정할 수 있으며, 이를 통해 원자로에서 보다 일관되고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 고급 플라즈마 발전기 (Advanced Plasma Generator) 는 공정 챔버 전체에서 균일 한 플라즈마 환경을 보장하여 매우 균일 한 증착률을 초래한다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 크고 복잡한 기판 및 다중 계층 스택 형상과 같은 복잡한 프로세스를 위해 설계되었으며, 고급 나노 구조 및 MEMS 응용 프로그램에 적합합니다. 같은 챔버 내에서 여러 프로세스 모듈을 실행할 수 있는 기능은 높은 (높은) 처리량을 보장합니다. 또한, 자동 챔버 (automated chamber) 형상은 사용자가 복잡한 3 차원 증착 작업을 빠르고 정확하게 수행 할 수 있도록 보장하는 한편, 작은 물리적 발자국을 제공합니다. 마지막으로, 센츄라 5200 (Centura 5200) 은 최첨단 원자로이며, 다양한 비표준 기능을 통해 고급 어플리케이션과 혁신적인 어플리케이션에 적합합니다. 통합 소스 가스 전달 시스템 (Source Gas Delivery System), 자동 챔버 형상 (Automated Chamber Geometry), 고급 플라즈마 생성 (Advanced Plasma Generation) 은 증착 과정에서 탁월한 제어 및 정밀도를 제공하는 반면 모듈식 설계는 필요에 따라 시스템 기능을 쉽게 변경하거나 업그레이드합니다. 이러한 모든 기능을 결합하여 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200은 고급 박막 증착 및 나노 구조에 이상적인 선택입니다.