판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9205664

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reactor는 오늘날의 다양한 반도체 제조 환경에서 탁월한 성능을 제공하기 위해 설계된 고급 산화 기반 공정 모듈 라인입니다. 이 모듈은 균일성 향상을 위한 듀얼 챔버 디자인 (Dual Chamber Design) 및 소형 기능 크기에 이상적인 최대 20 Torr의 고압 기능 (High Pressure Capability) 과 같은 다양한 기능을 제공합니다. 또한, AMAT Centura 5200은 고출력 RF 발전기를 포함하는 효율적인 열 관리 장비를 제공하여 안정성 및 온도 균형 제어를 강화합니다. 이 원자로는 AMAT (Fully Integrated Centura) 플랫폼의 일부를 구성하며, 여기에는 다양한 애플리케이션용 하드웨어, 소프트웨어 패키지, 수동 제어 인터페이스, 다중 계측 포트 등을 포함한 종합적인 하드웨어, 소프트웨어 패키지 및 보조 장치가 포함되어 있습니다. APPLIED MATERIALS Centura 5200은 산화물 증착, 산화물 에치 및 CVD 프로세스에 최적화된 멀티 챔버 공정 시스템을 제공하여 다운 스트림, 질화물 다운 스트림 및 산화물 다운 스트림이 동시에 가능합니다. 이를 통해 사용자는 CVC 소프트웨어와의 원활한 통합을 통해, 또는 원자로 통합이 가능한 APPLIED MATERIALS 자동화 패키지 (APPLIED MATERIALS automation package) 를 사용하여 원자로 (Reactor) 를 애플리케이션에 쉽게 구성할 수 있습니다. 마찬가지로, 이 장치는 프로세스 제어 (process control) 및 높은 수준의 정확성과 반복성을 보장하는 다양한 하드웨어 구성 요소와 호환됩니다. 이러한 구성 요소에는 통합 회전 기판 지원, 온도 제어 모듈, 공정 제어 가능 웨이퍼 척, 측면 벽 제품 홀더 및 대량 흐름 컨트롤러가 포함됩니다. 재료 호환성 측면에서 Centura 5200은 SiO2, SiNx, Si, Al2O3 및 W를 포함한 광범위한 재료와 함께 사용하도록 설계되었습니다. 또한, 원자로를 특정 기판으로 조정하여 사용자가 최적화 된 프로세스 조건을 달성 할 수 있습니다. 또한, 기계의 고급 제어 알고리즘 (advanced control algorithms) 과 통합 자동 튜닝 (integrated auto tuning) 기능은 웨이퍼 간의 최소한의 변형을 통해 고급 프로세스 균일성을 제공합니다. 이렇게 하면 웨이퍼 레벨의 100% 수율과 더 높은 장치 성능이 보장됩니다. 결론적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reactor는 최신 제작 환경에서 최적화된 장치 성능을 위해 고급 프로세스 제어, 고속 작동 및 뛰어난 반복성을 제공합니다.